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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 20-1997-0008905 (1997-04-28) |
| 공개번호 | 20-1998-0064247 (1998-11-25) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/2019970008905 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 고안은 반도체 세정장비의 노즐 플레이트에 관한 것으로, 종래에는 웨이퍼의 세정 공정을 수행하는 DI가 식각 공정을 수행하는 과정에서 컵월부(CUP WALL)에 묻은 케미칼을 깨끗이 씻어주지 못하고 상단과 중단에 케미칼을 남기게 되어 이물의 발생원인이 되는 문제점이 있었던바, 본 고안의 반도체 세정장비의 노즐 플레이트는 웨이퍼 스테이지부의 중심부에 DI를 분사하도록 설치되는 제 1 노즐 분사구와, 웨이퍼 스테이지부의 측부에 설치된 컵월부의 상단 내벽에 묻은 케미칼을 씻어 내도록 소정의 각도로 경사지게 설치되는 제 2 노즐 분사구를
웨이퍼 스테이지부의 중심부에 순수를 분사하도록 설치되는 제 1 노즐 분사구와, 상기 웨이퍼 스테이지부의 측부에 설치된 컵월부의 상단 내벽에 묻은 케미칼을 씻어 내도록 소정의 각도로 경사지게 설치되는 제 2 노즐 분사구를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 세정장비의 노즐 플레이트.
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