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[한국특허] 반도체 코팅장비의 웨이퍼 세정장치
APPARATUS FOR CLEANSING SEMICONDUCTOR WAFER OF COATING SYSTEM
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개실용신안
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/304
출원번호 20-1999-0007858 (1999-05-10)
공개번호 20-2000-0020585 (2000-12-05)
DOI http://doi.org/10.8080/2019990007858
발명자 / 주소
  • 심재영 / 충청북도청주시흥덕구향정동**번지**반도체기숙사*동***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 하이닉스반도체 / 경기 이천시 부발읍 아미리 산***-*
대리인 / 주소
  • 박장원 (PARK, Jang Won)
  • 서울특별시 강남구 논현동 ***번지
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 고안은 반도체 코팅장비의 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 본 고안의 웨이퍼 세정장치는 웨이퍼 후면에 뭍은 이물을 제거하기 위하여 별도로 작동되는 브러시 조립체를 웨이퍼 척의 일측에 설치하여 웨이퍼 후면을 털어 이물을 제거함으로써, 상기 웨이퍼의 코팅공정중에 그 후면에 발생되는 이물을 효과적으로 제거하게 되어 노광시 이물에 의한 빛의 산란을 미연에 방지할 수 있다.

대표청구항

감광액이 웨이퍼 표면에 골고루 코팅되도록 웨이퍼를 흡착하여 회전시키는 웨이퍼 척의 일측에 상기 웨이퍼 코팅시 웨이퍼 후면에 발생되는 이물을 털어내어 제거하기 위한 브러시 조립체가 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 코팅장비의 웨이퍼 세정장치.

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