초록 ▼

본 고안은 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 종래 기술은 웨이퍼에 따라 각각의 세정장치 중에서 하나의 세정장치를 선택하여 사용하므로 파티클의 제거효율을 극대화하기 어렵고, 세정작업을 진행하기 위한 웨이퍼척의 주변에 각 세정작업을 구동하기 위한 세정로봇이 두가지 이상씩 배치되므로 공간을 많이 차지하게 되고, 또한 장치구성이 복잡해지므로 설비비용이 증가하게 되는 바, 이에 본 고안은 공정챔버 내부에 웨이퍼를 로딩하기 위한 로딩부가 구비되고, 그 로딩부에 장착된 웨이퍼를 이송하기 위한 이송로봇과, 그 이송로봇에 의해 이송된 웨이퍼를

본 고안은 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 종래 기술은 웨이퍼에 따라 각각의 세정장치 중에서 하나의 세정장치를 선택하여 사용하므로 파티클의 제거효율을 극대화하기 어렵고, 세정작업을 진행하기 위한 웨이퍼척의 주변에 각 세정작업을 구동하기 위한 세정로봇이 두가지 이상씩 배치되므로 공간을 많이 차지하게 되고, 또한 장치구성이 복잡해지므로 설비비용이 증가하게 되는 바, 이에 본 고안은 공정챔버 내부에 웨이퍼를 로딩하기 위한 로딩부가 구비되고, 그 로딩부에 장착된 웨이퍼를 이송하기 위한 이송로봇과, 그 이송로봇에 의해 이송된 웨이퍼를 안착시키기 위한 웨이퍼척이 구비된 세정실과, 그 세정실의 일측에 설치되어 웨이퍼를 세정하기 위한 세정로봇으로 구성된 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서; 상기 세정로봇에는 세정특성 및 세정능력이 각기 다른 복수개의 세정장치가 일체로 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치를 제공함으로써, 하나의 구동로봇에 두가지 이상의 세정장치를 일체로 설치하여 장비의 단순화 및 제작원가의 절감을 가져올 수 있으며, 두가지 이상의 세정능력이 합해지므로 파티클의 제거능력이 향상되는 효과가 있다.

대표청구항

공정챔버 내부에 웨이퍼를 로딩하기 위한 로딩부와, 그 로딩부에 장착된 웨이퍼를 이송하기 위한 이송로봇과, 그 이송로봇에 의해 이송된 웨이퍼를 안착시키기 위한 웨이퍼척이 구비된 세정실과, 그 세정실의 일측에 설치되어 웨이퍼를 세정하기 위한 세정로봇으로 구성된 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서; 상기 세정로봇에는 세정특성 및 세정능력이 각기 다른 복수개의 세정장치가 일체로 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.

공정챔버 내부에 웨이퍼를 로딩하기 위한 로딩부와, 그 로딩부에 장착된 웨이퍼를 이송하기 위한 이송로봇과, 그 이송로봇에 의해 이송된 웨이퍼를 안착시키기 위한 웨이퍼척이 구비된 세정실과, 그 세정실의 일측에 설치되어 웨이퍼를 세정하기 위한 세정로봇으로 구성된 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서; 상기 세정로봇에는 세정특성 및 세정능력이 각기 다른 복수개의 세정장치가 일체로 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.