초록 ▼

본 고안은 반도체웨이퍼 세정공정이 진행되면서 처리조 내에 발생되는 반응부산물 등이 함유된 처리액을 지속적으로 순환시키기 위한 펌프와, 펌프의 펌핑압력 등으로 인해 처리액에 가해지는 진동을 감소시키어 제동역할을 하는 댐퍼를 일체형으로 형성시킬 수 있는 반도체 제조장비의 세정장치에 관한 것이다. 본 고안은 처리액이 중앙으로 부터 공급되어 오버플로워링되는 처리조와, 처리조와 연결설치되어 처리조 내로 처리액을 공급하고 오버플로워링된 처리액이 배기되도록 처리액이 순환되는 순환관을 구비한 반도체 제조장비의 세정장치에 있어서, 순환관에 설치되어

본 고안은 반도체웨이퍼 세정공정이 진행되면서 처리조 내에 발생되는 반응부산물 등이 함유된 처리액을 지속적으로 순환시키기 위한 펌프와, 펌프의 펌핑압력 등으로 인해 처리액에 가해지는 진동을 감소시키어 제동역할을 하는 댐퍼를 일체형으로 형성시킬 수 있는 반도체 제조장비의 세정장치에 관한 것이다. 본 고안은 처리액이 중앙으로 부터 공급되어 오버플로워링되는 처리조와, 처리조와 연결설치되어 처리조 내로 처리액을 공급하고 오버플로워링된 처리액이 배기되도록 처리액이 순환되는 순환관을 구비한 반도체 제조장비의 세정장치에 있어서, 순환관에 설치되어 순환되는 처리액을 펌핑시키고 펌핑 동작으로 인한 진동을 감소시키기 위한 펌프/댐퍼부를 구비한 것이 특징이다.따라서, 본 고안에서는 펌프와 댐퍼를 일체형으로 형성하므로써 부피를 최소화할 수 있는 잇점이 있다. 또한, 별도의 진동 억제용 지지물없이 진동을 최소화할 수 있다.

대표청구항

처리액이 중앙으로 부터 공급되어 오버플로워링되는 처리조와, 처리조와 연결설치되어 처리조 내로 처리액을 공급하고 오버플로워링된 처리액이 배기되도록 처리액이 순환되는 순환관을 구비한 반도체 제조장비의 세정장치에 있어서,상기 순환관에 설치되어 순환되는 처리액을 펌핑시키고 펌핑 동작으로 인한 진동을 감소시키기 위한 펌프/댐퍼부를 구비한 반도체 제조장비의 세정장치.

처리액이 중앙으로 부터 공급되어 오버플로워링되는 처리조와, 처리조와 연결설치되어 처리조 내로 처리액을 공급하고 오버플로워링된 처리액이 배기되도록 처리액이 순환되는 순환관을 구비한 반도체 제조장비의 세정장치에 있어서,상기 순환관에 설치되어 순환되는 처리액을 펌핑시키고 펌핑 동작으로 인한 진동을 감소시키기 위한 펌프/댐퍼부를 구비한 반도체 제조장비의 세정장치.