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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1998-0025321 (1998-12-17) |
공개번호 | 20-2000-0012370 (2000-07-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019980025321 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 고안은 반도체 제조장치의 히터 블록에 관한 것으로 웨이퍼가 얹혀지는 히터 블록의 형상 및 상기 히터 블록 내에 설치되는 히터의 형상을 변경하여 상기 히터 블록에 웨이퍼가 용이하게 얹혀짐과 함께 웨이퍼가 유동되는 것을 방지하고, 상기 히터 블록에 얹혀진 웨이퍼로 열이 집중적으로 전달되어 상기 웨이퍼의 감광막을 균일하게 제거하도록 한 것이다.이를 위해, 본 고안은 웨이퍼(3)가 얹혀짐과 함께 상기 웨이퍼(3)로 열을 전달하는 히터(2)가 구비된 반도체 제조장치의 히터 블록(1)에 있어서, 상기 히터 블록(1)의 상면에는 웨이퍼(3)
웨이퍼가 얹혀짐과 함께 웨이퍼로 열을 전달하는 히터가 구비된 반도체 제조장치의 히터 블록에 있어서, 상기 히터 블록의 상면에는 웨이퍼가 삽입고정될 수 있도록 하는 삽입홈을 형성하고, 상기 삽입홈의 직하방에 히터를 설치하여서 된 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치의 히터 블록.
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