최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0694354 (2007-03-30) |
공개번호 | US-0236491 (2008-10-02) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Different gases are separately exposed to RF energy in different zones in inlets to a processing chamber. Plasma is activated in the gases in each of the zones separately and the activated gases are then introduced into the plasma processing chamber where they may undergo mutual interaction within a
What is claimed is: 1. A plasma processing apparatus comprising: a processing chamber; a plurality of gas supplies; a plurality of inlet zones, each communicating between the processing chamber and one or more of the gas supplies; and an RF energy source including an RF generator and at least one a
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.