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특허 상세정보

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Negative ion source with hollow cathode discharge plasma

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) H01J-027/02   
미국특허분류(USC) 315/111.81; 250/423.R; 313/362.1; 315/111.21; 315/111.91
출원번호 US-0215770 (1980-12-12)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 5
초록

A negative ion source of the type where negative ions are formed by bombarding a low-work-function surface with positive ions and neutral particles from a plasma, wherein a highly ionized plasma is injected into an anode space containing the low-work-function surface. The plasma is formed by hollow cathode discharge and injected into the anode space along the magnetic field lines. Preferably, the negative ion source is of the magnetron type.

대표
청구항
▼

1. A negative ion source comprising: (a) an anode having an interior space for containing a plasma, and an opening into said space, said anode being at a first higher electrical potential; (b) converter means within said space for converting positive ions and neutral particles into negative ions, said converter being at a second lower potential; (c) a hollow cathode within said space for discharging a plasma into said space, said hollow cathode being at a third intermediate potential; (d) means for initiating a discharge within said space so as to ...

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. McClanahan Edwin D. (Richland WA) Moss Ronald W. (Richland WA). Device for providing high-intensity ion or electron beam. USP1977094046666.
  2. Mirtich ; Jr. Michael J. (N. Olmsted OH) Sovey James S. (Strongsville OH) Roman Robert F. (Brookpark OH). Hydrogen hollow cathode ion source. USP1980084218633.
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이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 27

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