$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

전극 구조 변화에 따른 Cold Hollow Cathode Ion Source의 특성 변화
Characterization of Cold Hollow Cathode Ion Source by Modification of Electrode Structure 원문보기

한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.40 no.10 = no.257, 2003년, pp.967 - 972  

석진우 (주식회사 피앤아이 기술연구소) ,  (국립모스크바대학교 물리학과) ,  한성 (주식회사 피앤아이 기술연구소) ,  백영환 (주식회사 피앤아이 기술연구소) ,  고석근 (주식회사 피앤아이 기술연구소) ,  윤기현 (연세대학교 세라믹공학과)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

직경 5 cm cold hollow cathode 이온원박막의 이온보조증착법 또는 이온보조반응법에 사용하기에 적합한 이온빔으로 넓은 면적을 균일하게 조사할 수 있는 이온원을 설계, 제작하기 위한 방안으로 연구하게 되었다. 이온원은 글로우 방전을 위한 음극과 이온화 효율의 증가를 위한 자석, 플라즈마 챔버, 그리드 전극으로 이루어진 이온광학시스템, 직류전원공급장치로 이루어진다. 전자인출전극의 구조 및 형태로 구분하여 한개의 노즐로 이루어진 (I) 형태와 복수개의 노즐로 변형된 (II) 형태로 제작하였다. 서로 다른 구조의 전자인출전극 (I)형태와 (II) 형태를 부착한 이온원에 beam profile을 측정한 결과 (I) 형태의 전자인출전극을 부착한 경우에는 이온원의 중심에서 140 $\mu\textrm{A}$/$\textrm{cm}^2$으로 측정되어 졌으며, 외곽으로 멀어질수록 급격히 전류밀도가 감소하여 균일한 영역(최대값의 90%)은 직경 5 cm로 측정되어졌다. (II) 형태로 변형되어진 이온원의 경우 중심에서 65 $\mu\textrm{A}$/$\textrm{cm}^2$으로 (I) 형태와 비교하여 상대적으로 낮은 전류밀도가 측정되었지만 외각으로 멀어졌을 경우에도 전류밀도는 완만하게 감소하여 균일한 영역은 직경 20 cm로 측정되었으며, 본 연구목적에 부합되는 특성이 측정되었다. 이온빔 균일도가 증가한 (II) 형태의 전자인출전극을 부착한 이온원으로 주입하는 아르곤 가스량의 변화, 이온광학시스템의 플라즈마 그리드 전극과 가속 그리드 전극 간격의 조절, 이온빔 에너지 변화에 따른 beam profile 및 특성을 괸찰하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The inner-diameter 5 cm cold hollow cathode ion source was designed for the high current density and the homogeneous beam profile of ion beam. The ion source consisted of a cylindrical cathode, a generation part of magnetic field, a plasma chamber, convex type ion optic system with two grid electrod...

주제어

참고문헌 (11)

  1. Brown, I.G., Oks, E.M.. Vacuum arc ion sources-a brief historical review. IEEE transactions on plasma science, vol.25, no.6, 1222-1228.

  2. Remnev, G.E., Isakov, I.F., Opekounov, M.S., Matvienko, V.M., Ryzhkov, V.A., Struts, V.K., Grushin, I.I., Zakoutayev, A.N., Potyomkin, A.V., Tarbokov, V.A., Pushkaryov, A.N., Kutuzov, V.L., Ovsyannikov, M.Yu.. High intensity pulsed ion beam sources and their industrial applications. Surface & coatings technology, vol.114, no.2, 206-212.

  3. Kaufman, H. R., Cuomo, J. J., Harper, J. M. E.. Technology and applications of broad-beam ion sources used in sputtering. Part I. Ion source technology. The Journal of vacuum science and technology, vol.21, no.3, 725-736.

  4. Kaufman, Harold R., Robinson, Raymond S.. Ion Source Design for Industrial Applications. AIAA journal, vol.20, no.6, 745-760.

  5. Tanjyo, Masayasu, Sakai, Shigeki, Takahashi, Masato. RF ion source for low energy ion implantation — beam profile control of a large-area ion source using 500-MHz discharge. Surface & coatings technology, vol.136, no.1, 281-284.

  6. Korzec, D., Engemann, J., Rapp, J.. Performance characteristics of a capacitively coupled 3 cm rf ion sourcea). Review of scientific instruments, vol.63, no.5, 3068-3072.

  7. Asmussen Jr., J., Grotjohn, T.A., Mak, Pengun, Perrin, M.A.. The design and application of electron cyclotron resonance discharges. IEEE transactions on plasma science, vol.25, no.6, 1196-1221.

  8. Groh, K. H., Loeb, H. W.. State of the art of radio-frequency ion sources for space propulsiona). Review of scientific instruments, vol.65, no.5, 1741-1744.

  9. Wang, C.X, Chen, Z.Q, Guan, L.M, Wang, M, Liu, Z.Y, Wang, P.L. Fabrication and characterization of graded calcium phosphate coatings produced by ion beam sputtering/mixing deposition. Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, vol.179, no.3, 364-372.

  10. Cho, J.S., Yoon, K.H., Koh, S.K.. Microstructure of indium oxide films in oxygen ion-assisted deposition. Thin solid films, vol.368, no.1, 111-115.

  11. Spädtke, Peter, Brown, Ian, Fojas, Paul. Low-energy ion beam extraction and transport: Experiment-computer comparison. Review of scientific instruments, vol.65, no.4, 1441-1443.

저자의 다른 논문 :

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

GOLD(Hybrid)

저자가 APC(Article Processing Charge)를 지불한 논문에 한하여 자유로운 이용이 가능한, hybrid 저널에 출판된 논문

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로