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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0786515 (2007-04-12) |
등록번호 | US-7364942 (2008-04-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 22 |
This invention discloses a process for forming durable anti-stiction surfaces on micromachined structures while they are still in wafer form (i.e., before they are separated into discrete devices for assembly into packages). This process involves the vapor deposition of a material to create a low st
What is claimed is: 1. A method for producing microelectromechanical devices comprising the steps of: inserting a wafer having a plurality of microelectromechanical devices fabricated on a surface thereof into one of an oven or a furnace; heating a compound having anti-stiction properties within sa
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