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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0310256 (1999-05-12) |
등록번호 | US-7381344 (2008-06-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 6 |
The invention teaches a multi-step method for shutting down the dry-etch process. The ICP rf power is reduced between each of these consecutive power-down steps of the dry-etch process, the complete power-down sequence consists of six steps. These six steps are executed in sequence and without inter
What is claimed is: 1. Providing a method of reducing particle count at the end of Power-down for an Inductive Coupled Plasma (ICP) dry-etch cleaning chamber, comprising the steps of: providing a ICP dry-etch cleaning chamber; positioning a workpiece within said cleaning chamber; and following a dr
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