최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | UP-0893353 (2007-08-15) |
등록번호 | US-7733095 (2010-06-29) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 12 |
Wafer level arc detection is provided in a plasma reactor using an RF transient sensor coupled to a threshold comparator, and a system controller responsive to the threshold comparator.
What is claimed is: 1. A plasma reactor comprising: a chamber and a workpiece support pedestal in the chamber, the workpiece support pedestal comprising at least one electrode; an RF bias power generator having a first shut-off control input; an impedance matching circuit coupled to said at least o
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.