최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기등록일자 | 2004-08-11 |
---|---|
출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=e21e4d0d0a5f4e79adf18c777094360e&fileSn=1&bbsId= |
□ 현재 반도체 공정에서 사용하는 습식 세정 공정은 1970년대 개발된 RCA 세정 방법을 근간으로 화학약품의 조성에 큰 변화 없이 사용되고 있다. RCA 세정에는 암모니아인 염기성을 주로 사용하는 SC1과 염산인 산성 용액을 사용하는 SC2 세정 방법으로 나눌 수 있다.
□ 세정공정은 여러 단계를 거치는 복잡한 공정에다 화학약품과 초순수를 많이 사용하기 때문에 고 비용과 배수 처리에 따른 환경 문제를 야기한다. 이를 해결하기 위해 세계적으로 여러 세정공정이 연구되고 있고 새로운 개념의 세정공정 및 장비가 개발
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.