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NTIS 바로가기등록일자 | 2007-09-12 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=c624ff0be7b446269813c3648afd1d28&fileSn=1&bbsId= |
○ 반도체는 여러 공정을 거처 제조되며 각 공정에서 미립자, 여러 금속을 함유한 무기물 및 폴리머화합물 등의 유기 오염물이 발생한다. 이 오염물은 반도체 품질에 큰 영향을 미치는 문제가 발생한다. 오염물 제거는 반도체 제조에 반드시 필요하고, 반도체 구조가 미세함에 따라 세정도 고도의 기술이 요구되고 있다.
○ 세계는 신기술에 대한 전쟁을 하고 있다고 해도 과언이 아니다. 이 반도체 세정기술만 하더라도 일본이 가장 많은 특허와 문헌을 발표하고 있으며 특히 세정장치의 시장 점유율에서도 앞서가고 있다. 그러나 우리
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