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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 이춘식 |
참여연구자 | 명현국 , 배귀남 , 신홍태 , 박은성 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-10 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200006379 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
(1) 서 론
- 연구배경
- 외국의 연구동향
(2) 웨이퍼 표면오염에 관한 이론적 고찰
- 입자와 표면의 부착력
- 정체점 근방의 축대칭 유동
- 열영동
(3) 웨이퍼 표면상의 입자침착 실험
- 실험장치의 구성 및 특성
- 실험시 고려사항
- 입자 침착에 관한 기초실험
- 열영동 효과
(4) 웨이퍼 표면상의 입자침착에 관한 수치 시뮬레이션
- 수치해석 방법
- 결과 및 고찰
(5) 웨이퍼를 이용한 청정도 평가
- 외국의 연구 동향
- 부유미
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