최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 인하대학교 InHa University |
---|---|
연구책임자 | 박동화 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1996-04 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 인하대학교 InHa University |
등록번호 | TRKO200200017929 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 열프라즈마.초미립자.질화알루미늄.기상합성.Thermal Plasma.ultrafine power.aluminum nitride.vapor phase reaction. |
질화알루미늄(AIN)은 높은 열전도성과 절연성, 상대적으로 낮은유전상수 등의 특성으로 인해 가장 유망한 세라믹스 기판재료 중의 하나로 주목받고 있는물질이다. 그러나 치밀한 소결체를 얻기 위하여 고온(약 1900℃)이 요구되고, 소결체의 열전도도는 불순물의 함량에 매우 민감하다. 이러한 문제들을 해결하기 위하여 저온소결, 높은 열 전도도를 위한 원료물질로서, 고순도, 초미립 AIN분말을 합성하는 연구가 활발히 행해지고 있다. 초미립 분말은 고온을 이용하여 기상으로 물질을 기화시키고 기상으로부터빠른 quenching
Aluminum nitride(AIN) is attracted material as one of the mostpromissing for ceramic substrates because its good properties such as high thermalconductivity, high electrical resistivity, and relatively low dielectrical constant.However, a high temperature(about 1900℃) is necessary to
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.