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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 박순규 |
참여연구자 | 이강원 , 고세종 , 김중관 , 김관석 , 하상수 , 이정호 , 조호준 , 황윤형 , 김진영 , 권오진 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2001-06 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO200300001879 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 웨이퍼.반복정밀도.세정 실.반송시스템.반전 축.Wafer.Repeatability.Cleaning Chamber.Transfer System.Flip Axis. |
I. 시스템 개발 방향
가. Robot는 총6축으로 구성
(1) Rl, R2 Axis : 세정실의 중앙에서 R축의 Home Position까지의 이동 (Rl : 세정 전 웨이퍼 이송, R2 : 세정 후 웨이퍼 이송)
(2) Z Axis : 웨이퍼를 놓고 꺼내기 위한 수직 방향 이동
(3) Flip Axis : 웨이퍼를 180도 뒤집어 주는 역할
(4) Theta Axis 세정실과 버퍼간의 위치 변화를 위한 회전
(5) Traverse Axis : 각 세정실과 버퍼간의 이동
II. 시스템 최종 실
The goal of this developing project is to make smart and precision wafer transfer system. This system consisted with 5 axis wafer robot and 1 axis traverse linear motor. Also 3 point gripper by DC servo motor is included in this system. This gripper flips to wash both side of wafer. Two radial axis
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