[보고서]새로운 게이트 유전체용 재료 Hfo2와 HfSiO4에 관한 연구

윤순길

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새로운 게이트 유전체용 재료 Hfo2와 HfSiO4에 관한 연구

보고서 정보
주관연구기관	정보통신연구진흥원 Institute for Information Technology Advancement
연구책임자	윤순길
참여연구자	최규정 , 전영아 , 조상인
발행국가	대한민국
언어	한국어
발행년월	2002-08
등록번호	TRKO200500019227
DB 구축일자	2013-04-18

초록

PECVD방법에 의해 gate dielectrics에 적용할 고유전체 HfO2 와 HfSiO4 박막의 제조와 그의 전기적 특성평가를 통해 소자 응용 가능성을 타진하고 박막제조 공정을 확립하는데 있다.

참고문헌 (25)

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