최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 주성엔지니어링 |
---|---|
연구책임자 | 유진혁 |
참여연구자 | 고성근 , 이원준 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2018-07 |
과제시작연도 | 2017 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO202200007246 |
과제고유번호 | 1711057199 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2022-09-03 |
제 1 장 서론
제 1 절 과제의 개요
1. 개발 대상 기술 개요
본 기술은 Multiple Patterning 공정에서 Ashing Free, 두께 재현 성 및 고성능, 고생산성으로 10nm이하 급 소자 개발에 대응하기 위한 장비 개발 이며, Thermal 및 Plasma 증착 기술을 접목하여 다양한 공정에 적용 가능함.
2. 개발 대상 제품 개요
반도체 소자가 집적화됨에 따라 미세 선폭 구현을 위한 고품질의 박막 증착 기술 및 새로운 패턴 형성 방식 (QPT) 의 장비가 요구 되고 있다. 주관
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.