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화합물반도체 에피성장 및 실시간 제어
Compound Semiconductor Epitaxy and Real-Time Control 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 서울대학교 재료공학부
연구책임자 윤의준
참여연구자 이건도 , 문필경 , 이영수 , 안응진 , 김정섭 , 양창재 , 김현우 , 김동혁 , 김희진 , 이건훈 , 나현석 , 권순용 , 박광민 , 이학선 , 서희찬 , 신유리 , 김병주 , 김현진 , 황희돈 , 송석찬 , 임승현 , 강종훈 , 박진원 , 윤석호 , 여환국 , 홍석원 , 임상균 , 김봉구 , 송동우 , 정승훈 , 최석
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2006-06
과제시작연도 2005
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학재단
Korea Science and Engineering Foundtion
등록번호 TRKO200700002551
과제고유번호 1350020027
사업명 국가지정연구실사업
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 화합물반도체.광전소자.에피성장.실시간 성장 제어.실시간 모니터링.compound semiconductor.optoelectronic device.epitaxial growth.real-time control.in-situ monitoring.

초록

목표 : 광전소자용 고품위 화합물반도체 에피 성장 기술 확보
방법 : 1. MOCVD 에피 성장 기술 최적화
2. 에피성장 중 SR 및 MOSS를 이용한 실시간 모니터링 및 제어기술 확보
결과
- 실시간 모니터링
1. SR 이용 박막 성장과정의 실시간 측정
$\rightarrow$ 두께, 조성, 표면구조, 표면반응 등의 실시간 분석
$\rightarrow$ 실험변수의 최적화 및 재현성 확인
2. MOSS 자체제작
$\rightarrow$

Abstract

The purpose of the first phase is to establish techniques on real-time monitoring and analysis during epitaxial growth of compound semiconductors. For this purpose, we established epitaxial growth technique with monolayer accuracy and reproducibility by using MOCVD, and developed real-time monitorin

목차 Contents

  • 표지...1
  • 제출문...2
  • 보고서 초록...3
  • 요약문...4
  • SUMMARY...6
  • CONTENTS...8
  • 목차...10
  • 제1장 연구개발과제의 개요...12
  • 제1절 연구개발 개요...12
  • 제2절 연구개발 목표 및 내용...13
  • 1. 최종목표...13
  • 2. 단계 목표...13
  • 3. 연차별 연구목표 및 내용...14
  • 4. 평가의 착안점 및 척도...15
  • 제3절 연구추진전략 및 방법...16
  • 1. 연구개발 추진전략...18
  • 2. 연구개발 추진체계...18
  • 제2장 국내외 기술개발 현황...19
  • 제1절 국외의 연구개발 실적...19
  • 제2절 국내의 연구개발 실적...21
  • 제3절 연구결과의 현 위치...22
  • 제3장 연구개발수행 내용 및 결과...23
  • 제1절 실시간 모니터링...23
  • 1. GaN의 실시간 Spectral Reflectance 측정...23
  • 2. MOSS (multi-beam optical stress sensor) 제작...24
  • 3. SR을 이용한 Atomic Layer Epitaxy 관찰...25
  • 4. InAs/InP 양자점 성장시의 spectral reflectance 관찰...26
  • 5. InAs/InGaAs/InP 적층 양자점 성장 과정의 실시간 SR 측정...27
  • 6. 도핑 레벨의 실시간 측정...29
  • 7. in-situ doping을 통한 광전소자용 고품위 도핑 구현...29
  • 8. Spectral Reflectance를 이용한 에피층 성장의 실시간 분석...30
  • 9. Multibeam Optical Stress Sensor (MOSS)를 이용한 에피층 성장의 실시간 분석...32
  • 제2절 에피성장...34
  • 1. NH3 preheater 사용에 의한 물성향상...34
  • 2. 성장정지를 이용한 In-rich InGaN/GaN 양자우물구조 성장...34
  • 3. 사성분계 화합물 반도체 성장...36
  • 4. 고품질 crack-free AlGaN의 성장과 열역학적 분석을 통한 물성 제어방법 제시...37
  • 5. In-rich InGaN/GaN 양자점 성장...39
  • 6. In-rich InGaN 양자우물구조의 발광 파장 계산...40
  • 7. In-rich InGaN/GaN 다중양자우물 구조 성장과 LED 제작...41
  • 8. 주기적인 AsH3 공급차단 (Periodical AsH3 Interruption; PAI)을 통한 고품질의 양자점 성장...43
  • 9. PAI 양자점 성장시 원료 공급의 정밀한 제어를 위한 독립 제어 시스템 구축...45
  • 10. VFF, eight-band k.p 방법을 이용한 양자점의 응력 및 전기적, 광학적 특성 계산...46
  • 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...50
  • 제1절 계획대비 달성도...50
  • 1. 1단계...50
  • 2. 2단계...50
  • 제2절 연차별 연구성과 총괄...52
  • 1. 총괄...52
  • 2. 기술이전 및 활용...52
  • 3. 기술료 수입...53
  • 4. 연구결과의 산업화 실적 - 시제품개발, 시험생산, 대량생산 등...53
  • 5. 특허출원/등록...53
  • 6. 논문게재...54
  • 7. 학술발표...64
  • 제3절 관련분야에의 기여도...87
  • 1. 실시간 모니터링...87
  • 2. 에피성장...89
  • 제4절 공공기능수행실적...93
  • 1. 홈페이지 운영 및 활용현황...94
  • 2. 산학연협력거점 활동 현황...98
  • 3. 활발한 학술/학회 활동...98
  • 4. NRL 세미나 개최실적...100
  • 5. NRL 주관 Workshop 개최실적...102
  • 6. 대외초청 세미나...103
  • 7. 국내외 연구기관과의 협력...103
  • 8. 화합물반도체 인식 및 저변 확대...104
  • 제5장 연구개발결과의 활용계획...105
  • 제6장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보...106
  • 제7장 참고문헌...108

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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