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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 장홍영 |
참여연구자 | 이동석 , 전현수 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2005-08 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술정보연구원 Korea Institute of Science and Technology Information |
등록번호 | TRKO200700002819 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
일반적으로 CCP의 경우 높은 주파수를 사용할 경우 플라즈마 발생을 용이하게 하며 상대적으로 높은 밀도를 얻으므로 plasma source에 주로 사용하며, 낮은 주파수를 인가하는 경우는 이온의 에너지를 제어하므로 주로 Bias에 사용이 된다. 따라서 높은 주파수와 낮은 주파수를 동시에 사용하는 이중 주파수 CCP의 연구가 활발히 진해되고 있다. 하지만 최근 연구에 의하면 두 개 이상의 주파수를 동시에 사용할 경우 독립적인 제어가 불가능해지는 것으로 알려져 있다.
이에 본 연구에서는 ICP를 이용하여 주파수를 2 Mhz, 13
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