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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전북대학교 Chonbuk National University |
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연구책임자 | 신형식 |
참여연구자 | 서재명 , 이병수 , 최대규 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2002-10 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200900073499 |
사업명 | 기초과학연구사업>특정기초연구 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | Diamond Film.Heteroepitaxy.HFCVD.MW Plasma CVD.In-situ surface analysis.Vicinal steppted-Si.SiC Buffer Layer.BEN.Diamond Film.Heteroepitaxy.HFCVD.MW Plasma CVD.In-situ surface analysis.Vicinal steppted-Si.SiC Buffer Layer.BEN. |
본 연구에서는 다이아몬드 박막의 성장을 위해 수직 상승 flow형의 hot-filament CVD법과 microwave plasma CVD법을 채택하고, 특히 성장 도중 공기 중에서 시료를 노출시키지 않은 채 XPS, AES 및 LEED 등의 표면 분석을 통하여 성장 중의 박막의 물리 화학적 및 구조의 변화를 관찰하고자 한다. 아울러 성장 후 다이아몬드의 morphology, 순도 및 결정성은 SEM, AFM, micro-Raman 및 TEM 등으로 확인할 계획이다. 특히 효과적인 핵생성의 근원을 밝히기 위하여 각 연구원의 과제에서
For the diamond film growth, the hot filament CVD using the vertical upflow reactor and the microwave plasma CVD will be employed. Especially, through connecting the growth and the analysis chambers, the in-situ surface analyses such as XPS, AES, and LEED will be conducted to observe the evolution o
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