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NTIS 바로가기주관연구기관 | 넥스타 테크놀리지(주) |
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연구책임자 | 박현수 |
참여연구자 | 이희준 , 이종길 , 서승환 , 김기택 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2003-05 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 한국산업기술평가원 |
등록번호 | TRKO201000015334 |
과제고유번호 | 1420002078 |
사업명 | 중소기업기술혁신개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 위치보정기술.알루미나세라믹.초정밀스테이지.Hall Commutation.PWM.Air Bearing.Disturbance.Error Mapping. |
1. 기술 개발 목표
광부품 및 반도체제조장비에 사용되는 서브미크론급 초정밀 XY 스테이지 기술을 개발하여 상품화 판매
2. 기술 개발 목적 및 중요성
가. 초정밀 XY 스테이지 시스템를 개발하여 반도체, 광부품 관련 장비의 적용을 통하여 자본재 산업의 국산화 촉진
나. 고가의 장비의 수출 기반 조성과 이를 통한 고부가가치 창출
다. 국내설비에 의한 생산을 통해 제품의 원가절감 및 반도체 산업의 생산성향상과 제품 공정 기술 등에 대한 국제 경쟁력을 확보
라. 나노 테크놀리지가 국내 중점 사업의 기반
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