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특 고압 반도체 스위치를 이용한 플라즈마 이온 임플랜트용 펄스 모듈레이터 개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 (주)다원시스
연구책임자 유효열
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2003-06
과제시작연도 2002
주관부처 중소기업청
사업 관리 기관 한국산업기술평가원
등록번호 TRKO201000015366
과제고유번호 1420018735
사업명 중소기업기술혁신개발
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 특고압.반도체스위치.플라즈마.이온임플랜트.모듈레이터 아크 보호.상승시간.하강시간.펄스전압.펄스전류.

초록

1. 기술개발목표
60kV, 3000kW 펄스 출력을 갖는 플라즈마 이온 주입 장비를 위한 펄스 모듈 레이터 개발.
2. 기술개발의 목적 및 중요성
물체 표면에 플라즈마 이온을 주입하면 이온이 물체 표면에 들어가 그 부위의 물리적 내지는 화학적 성질을 변화시켜 새로운 소재를 만들어 낸다 이런 성질을 이용하여 공구나 각종 기계 부품의 표면처리에 널리 사용되고 있다. 경쟁기술인 PVD 및 CVD에 비해 처리비용이 훨씬 저렴하고 소재의 형상 및 크기에 대한 수용범위가 월등히 크다는 점에서 향후 응용분야의 확대가 기대된다.

목차 Contents

  • 표지 ...1
  • 제출문 ...2
  • 요약서 ...3
  • 목차 ...5
  • 제1장 개요 ...6
  • 제1절 개발대상 기술의 개요 ...6
  • 제2절 기술개발의 필요성 및 효과 ...9
  • 제2장 시스템 구성 ...12
  • 제1절 시스템 구성 ...12
  • 제2절 고전압 전원장치 ...12
  • 제3절 고전압 스위치 TANK ...12
  • 제4절 CONTROL UNIT ...13
  • 제3장 기술개발 내용 ...15
  • 제1절 정전류 형 60kV 20kW 고전압 전원 장치 개발 ...15
  • 제2절 고전압 대 전력 펄스 출력용 캐패시터 연구 및 선정 ...20
  • 제3절 100kV 100A MOSFET Switch Module 개발 ...21
  • 제4절 ARC 고속 Interrupt 검출 및 제어 기술 개발 ...25
  • 제5절 DSP를 기본으로 하는 주 제어기 H/W 및 S/W 개발 ...27
  • 제6절 60kV 3,000kW 펄스 출력을 갖는 펄스 모듈레이터 개발 ...29
  • 제7절 플라즈마 이온 주입 장비 적용 시험 ...61
  • 제4장 결론 ...63
  • 부 록 ...65

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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