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마이크로볼로미터용 니켈산화막 형성 연구
Nickel Oxide Film Formation for Microbolometer Infrared Image Sensor 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 경북대학교
KyungPook National University
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2010-04
과제시작연도 2009
주관부처 교육과학기술부
사업 관리 기관 한국연구재단
National Research Foundation of Korea
등록번호 TRKO201000017745
과제고유번호 1345105401
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 적외선 영상 센서,마이크로 볼로미터,니켈 산화막,reactively 스퍼터링,온도저항 계수,저잡음,온도분해능Infrared Image Sensor,Microbolometer,MEMS,Nickel Oxide,Reactively Sputtering,TCR,Low noise,NETD

초록 ▼

비냉각방식의 적외산 센서인 마이크로 불로미터는 온도저항계수(TCR, Temperature Coefficient of Resistance) 가 크고 잡음 성능이 좋은 물질을 사용할 필요가 있다. 현재 개발되어 주로 사용되고 있는 적외선 감지물질은 바냐륨 산화막(<TEX>$VO_x$</TEX>) 과 비정질실리콘 (a-Si)이다. <TEX>$VO_x$</TEX>는 여러 종류의 위상을 가지고 있어 재현성 및 안정성이 좋지 않으며, a-Si는 구조적 특정 때문에 높은 전기적 잡음특성을 나타내는 단점

Abstract ▼

Microbolometric uncooled infrared detector requires high a TCR(temperature coefficient of resistance) and low noise characteristics for the advanced performance. Yanadium oxide(<TEX>$VO_x$</TEX>) and amorphous silicon(a-Si) have been widely used even though the unstability results from s

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 일반연구자지원사업 최종보고서 ... 2
  • 목차 ... 4
  • I. 연구 계획 요약문 ... 5
  • 1. 국문 요약문 ... 5
  • II. 연구 결과 요약문 ... 6
  • 1. 국문 요약문 ... 6
  • 2. 영문 요약문 ... 7
  • III. 연구내용 및 결과 ... 8
  • 1. 연구 개발 과제의 개요 ... 8
  • 2. 국내.외 기술 개발 현황 ... 11
  • 3. 연구 수행 내용 및 결과 ... 13
  • 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 60
  • 5. 연구 결과의 활용 계획 ... 62
  • 6. 연구 과정에서 수집한 해외 과학기술 정보 ... 62
  • 7. 주관연구책임자 대표적 연구 실적 ... 62
  • 8. 참고 문헌 ... 63
  • 9. 연구 성과 ... 65
  • 10. 기타사항 ... 67
  • 별첨1-1 대표연구성과 ... 68
  • 별첨1-2 대표연구성과 ... 69
  • 자체평가 의견서 ... 71
  • 끝페이지 ... 77

참고문헌 (25)

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