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NTIS 바로가기주관연구기관 | 수원대학교 The University of SuWon |
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연구책임자 | 강석춘 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2007-12 |
과제시작연도 | 2007 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 중소기업기술정보진흥원 |
등록번호 | TRKO201100013341 |
과제고유번호 | 1425045624 |
사업명 | 산학연 공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 최종목표
1) 반도체 FAB의 CMP 또는 연마공정 후 잔류하는 파티클제거 목적 PVA 브러쉬 개발
2) 세정 효과 증대에 관한 구조, 조건, 공정 연구
2. 개발내용
1) PVA Brush 구조 연구 및 브러쉬 특성개발
2) 기공구조를 통하여 세정액을 흡수 및 배출하는 조건 연구
3) 화학적 안정성 검토
4) 웨이퍼 세정조건 개발
3. 개발 결과
1) 유기물 및 중금속에 오염된 웨이퍼에 효과적으로 물리적 세정이 가능한 PVA Brush 개발
2) 개발된 PVA Brush는
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