초록 ▼

○ 폐 미분 Si 정제기술 개발
▸ 폐 미분 Si 순도향상 공정 확립
▸ 폐 미분 Si 불순물 분석 기술 개발
○ 폐 미분 Si 분급기술 개발
▸ 폐 미분 Si 분급 공정 개발
▸ 폐 미분 Si 입도별 분급 기술 개발
○ 플라즈마 합성장치 설계, 제작 및 운전조건 확립
▸ 플라즈마 합성장치 제작
▸ 안정적인 플라즈마 화염 형성을 위한 운전조건 확립
○ SiC 나노분말의 합성기술 확립 및 공정 최적화
▸ SiC 나노분말 합성기술 확립
▸ SiC 나노분말 제조 공정 최적화

○ 폐 미분 Si 정제기술 개발
▸ 폐 미분 Si 순도향상 공정 확립
▸ 폐 미분 Si 불순물 분석 기술 개발
○ 폐 미분 Si 분급기술 개발
▸ 폐 미분 Si 분급 공정 개발
▸ 폐 미분 Si 입도별 분급 기술 개발
○ 플라즈마 합성장치 설계, 제작 및 운전조건 확립
▸ 플라즈마 합성장치 제작
▸ 안정적인 플라즈마 화염 형성을 위한 운전조건 확립
○ SiC 나노분말의 합성기술 확립 및 공정 최적화
▸ SiC 나노분말 합성기술 확립
▸ SiC 나노분말 제조 공정 최적화
○ SiC 나노분말의 합성메커니즘 확립
▸ SiC 합성 메커니즘 규명
▸ SiC 분말의 나노 스케일 미분화 메커니즘 규명

Abstract ▼

○ Silicon dust purification technology development
▸ Silicon dust purity improvement process established
▸ Development of silicon dust impurities analysis techniques
○ Development of Silicon dust classification techniques
▸ Silicon dust classification process development
▸ Development

○ Silicon dust purification technology development
▸ Silicon dust purity improvement process established
▸ Development of silicon dust impurities analysis techniques
○ Development of Silicon dust classification techniques
▸ Silicon dust classification process development
▸ Development of silicon dust particle size classification techniques
○ Plasma synthesis device design, fabrication and operation conditions established
▸ Plasma synthesis device fabrication
▸ Establish operating conditions for the formation of a stable plasma flame
○ SiC nano powder synthesis technology development and process optimization
▸ SiC nano powder synthesis techniques to establish
▸ SiC nano powder manufacturing process optimization
○ SiC nano powder synthesis mechanism established
▸ SiC synthesis mechanism identification
▸ Mechanism identification of SiC powder changes to the nano-sized

목차 Contents

• 제 출 문 ... 1
• 보고서 초록 ... 2
• 요 약 문 ... 5
• SUMMARY ... 6
• 목 차 ... 15
• 표 목 차 ... 17
• 그림 목차 ... 18
• 제1장 서론 ... 20
• 제1절 연구개발의 필요성 ... 20
• 1. 연구배경 ... 20
• 2. 연구의 필요성 ... 20
• 3. SiC 분말의 특징 및 용도 ... 21
• 4. SiC 제조방법 ... 22
• 5. 타 제조 공정 대비 개발 공정의 특징 ... 25
• 제2절 연구 개발의 국내 외 현황 ... 25
• 1. 국외 현황 ... 25
• 2. 국내 현황 ... 26
• 제3절 연구개발대상 기술의 차별성 ... 29
• 1. 종래 나노 SiC 분말의 제조 기술 및 문제점 ... 29
• 2. 개발 기술의 우수성 및 차별성 ... 29
• 제2장 연구개발의 목표 및 내용 ... 30
• 제1절 연구개발의 최종목표 ... 30
• 제2절 연도별 연구개발의 목표 및 평가방법 ... 30
• 제3절 연도별 추진체계 ... 32
• 제3장 연구개발 결과 및 활용계획 ... 33
• 제1절 연구개발 결과 및 토의 Ⅰ <주관기관> ... 33
• 1. 플라즈마 합성장치의 기본 설계 ... 33
• 2. 산세 공정 설계 및 폐 미분 Si 오염물(Fe) 제거 기술 ... 38
• 3. Si 폐 미분 산 처리 후 발생되는 폐산의 처리 시스템 ... 41
• 4. 수비 분리장치 설계 및 수비 분리법을 이용한 폐 미분 Si 입도 분급 기술 ... 42
• 5. Air 분급 장치를 이용한 Si 입도 분급기술 ... 45
• 제2절 연구개발 결과 및 토의 Ⅱ <위탁기관> ... 47
• 1. SiC 합성 연구 결과 ... 47
• 2. 고상반응에 의한 SiC 합성 결과 ... 51
• 3. 30 kW 플라즈마 합성장치를 이용한 SiC 합성 ... 60
• 4. 90 kW 플라즈마 합성장치를 이용한 SiC 나노분말 제조 ... 72
• 5. SiC 반응 메커니즘 규명 ... 75
• 제3절 연구개발 결과 요약 ... 79
• 1. 주관연구 기관 ... 79
• 2. 위탁연구 기관 ... 80
• 제4절 연도별 연구개발목표의 달성도 ... 81
• 제5절 연도별 연구성과(논문·특허 등) ... 82
• 제6절 관련분야의 기술발전 기여도 ... 83
• 제7절 연구개발 결과의 활용계획 ... 83
• 제8절 국가과학기술종합정보시스템에 등록한 연구시설·장비 현황 ... 84
• 제4장 참고문헌 ... 85
• 부록 1. 특허출원서 ... 86
• 부록 2. 논문 ... 88
• 부록 3. 포스터 발표 우수상장 ... 89
• 부록 4. 귀국보고서 - 전성덕 ... 90
• 부록 5. 귀국보고서 - 배일호 ... 108
• 부록 6. 공개 세미나 – ISCS-2011 ... 117
• 부록 7. 공개 세미나 – ISSMD-2011 ... 121