초록 ▼

Ⅲ. 연구개발의 내용 및 범위
○ 전자빔을 이용한 롤 패터닝 장비의 핵심기술 개발과 관련된 3년간의 연구목표 및 내용은 다음표와 같음.
○ 1차년도는 롤 패터닝에 앞서 평판에 가공할 수 있는 평판 패터닝 장비의 핵심기술 확보 및 롤 패터닝 장비의 개념 설계, 2차년도는 롤 패터닝 장비의 상세 설계 및 제작, 3차년도는 롤 패터닝 장비의 prototype 구축을 통한 장비 핵심기술 검증을 목표로 하고 있음.
1차년도(2009)
평판 패터닝 장비 핵심기술 확보/롤 패터닝 장비 개념설계
• 평판 패터닝 장

Ⅲ. 연구개발의 내용 및 범위
○ 전자빔을 이용한 롤 패터닝 장비의 핵심기술 개발과 관련된 3년간의 연구목표 및 내용은 다음표와 같음.
○ 1차년도는 롤 패터닝에 앞서 평판에 가공할 수 있는 평판 패터닝 장비의 핵심기술 확보 및 롤 패터닝 장비의 개념 설계, 2차년도는 롤 패터닝 장비의 상세 설계 및 제작, 3차년도는 롤 패터닝 장비의 prototype 구축을 통한 장비 핵심기술 검증을 목표로 하고 있음.
1차년도(2009)
평판 패터닝 장비 핵심기술 확보/롤 패터닝 장비 개념설계
• 평판 패터닝 장비용 직선/회전 스테이지 개발 정밀도 측정 및 보상기술 확보 (정밀도 400 nm급)
• 고진공 유지기술 개발
• 전자빔 스팟 사이즈 : 400 nm
• 전자빔 가공을 통한 평판 패터닝 장비 검증
• 롤 패터닝 장비 선진기술 자료조사
• 롤 패터닝 장비 개념설계
2차년도(2010)
롤 패터닝 장비 핵심 요소
• 롤 패터닝 장비 상세설계(롤폭 100 mm, 롤직경 50 mm, 미세선폭 150 nm 기준) 설계기술 개발
• 스테이지 정밀도 측정 및 보상기술 개발 (정밀도 250 nm급)
• 롤 패턴 가공을 위한 동기제어기술 개발
• 고진공 챔버 및 방진시스템 설계 및 제작
• 전자빔 스팟 사이즈 : 250 nm
3차년도(2011)
롤 패터닝 장비의 Prototype 구축을 통한 장비핵심기술 검증 및 확립
• 롤 패터닝 장비 Prototype 구축
• 롤 패터닝 장비용 스테이지 정밀도 보상 (정밀도 150 nm급)
• 동기제어 구현 및 보상
• 전자빔 스팟 사이즈 : 150 nm
• 진공용 초정밀 운동요소의 설계기술 확립
• 진공환경내 초정밀 측정 및 보상기술 확립
• 고진공 환경유지 및 방진기술 확립
• 전자빔 가공을 통한 롤 패터닝 장비 핵심요소기술 검증

Abstract ▼

Ⅲ. Research Contents and Scope
1st year(2009) - Development of core technologies for flat patterning machine
- Design of ultra precision stages in vacuum
- Construction of flat patterning machine using electron beams
- Electron beam machining
- Conceptual design of roll pa

Ⅲ. Research Contents and Scope
1st year(2009) - Development of core technologies for flat patterning machine
- Design of ultra precision stages in vacuum
- Construction of flat patterning machine using electron beams
- Electron beam machining
- Conceptual design of roll patterning machine
2nd year(2010) - Development of core technologies for roll patterning machine
- Design of roll patterning machine(length of roll:100 mm, diameter of roll:50 mm, pattern width:150 nm)
- Design and fabrication of ultra precision stages for roll patterning in vacuum
- Design and fabrication of vacuum chamber and anti-vibration system
- Spot size of electron beams : 250 nm
3rd year(2011) - Construction of roll patterning machine
- Construction of roll patterning machine (prototype)
- Compensation of accuracy of precision stages
- Vacuum level test
- Beam control of electron beam column
- Spot size of electron beams : 150 nm

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 초록 ... 3
• 요 약 문 ... 4
• S U M M A R Y ... 7
• C O N T E N T S ... 8
• 목 차 ... 9
• 제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 11
• 제 1 절 연구개발의 필요성 ... 11
• 1. 기술적 측면 ... 11
• 2. 경제, 산업적 측면 ... 12
• 3. 사회, 문화적 측면 ... 13
• 제 2 절 연구개발의 목표 및 내용 ... 14
• 1. 연구개발의 목표 ... 14
• 2. 연구개발의 내용 ... 14
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 16
• 제 1 절 국외기술개발 현황 ... 16
• 제 2 절 국내기술개발 현황 ... 20
• 제 3 장 연구개발 수행결과 및 내용 ... 21
• 제 1 절 평판 패터닝 장비의 구축 ... 21
• 1. 평판 패터닝 장비 개요 ... 21
• 2. 직선운동요소의 성능평가 ... 22
• 3. 회전운동요소의 성능평가 ... 25
• 4. 전자빔 가공 Prototype 구축 ... 30
• 제 2 절 롤 패터닝 장비 설계 ... 33
• 1. 롤 패터닝 장비 문헌조사 ... 33
• 2. 롤 패터닝 장비 개념설계 ... 38
• 3. 롤 패터닝 장비 상세설계 ... 41
• 1) 롤 패터닝 장비 구조 ... 41
• 2) 운동전달용 피드스루 설계 ... 43
• 3) 직선스테이지 설계 ... 46
• 4) 회전스테이지 설계 ... 49
• 5) 전자빔 경통의 설계 ... 52
• 제 3 절 롤 패터닝 장비 구축 및 성능평가 ... 66
• 1. 롤 패터닝 장비 구축 ... 66
• 2. 직선스테이지 평가 ... 68
• 3. 회전스테이지 평가 ... 69
• 4. 진공도 평가 ... 71
• 5. 전자빔 경통의 빔제어 ... 72
• 6. 원통금형 가공을 위한 향후 연구내용 ... 78
• 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 81
• 제 1 절 사업 진도 및 추진 실적 ... 81
• 제 2 절 연구성과 ... 82
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 91
• 제 6 장 참고문헌 ... 92