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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국세라믹기술원 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-11 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 지식경제부 Ministry of Knowledge Economy |
등록번호 | TRKO201300024278 |
과제고유번호 | 1415104150 |
사업명 | 에너지자원기술개발지원 |
DB 구축일자 | 2013-09-14 |
키워드 | 저유전박막.용액공정.폴리페닐카보실란.반도체 배선.TFT-LCD배선. |
III. 연구개발의 내용 및 범위
기존의 투명유전체보다 저유전율, 고 투과성을 가지며 저온소성이 가능한 유전체를 개발하기 위해 Polyphenylcarbosilane(PPCS)을 통해 투명 유전체 막을 형성 하고 이에 대한 막 특성 평가를 한다. 소성 온도 및 열처리 분위기를 변화를 시켜 유전 특성을 비교하며 이때 화학적인 구조 변화를 분석한다. 또한 코팅 방법을 달리 하여 막의 두께 및 표면조도를 확인 하며, 막 제조 조건을 확립 하여 투명 저유전체로의 적용 가능성을 찾아본다.
The low dielectric film has been required the dielectric constant as under 3.0 for Cu interconnect with 0.13μm gap by the substitution of Al because the high performance semiconductor module runs with 2100MHz high speed. SiOC film which has similar properties with SiO2 has been interested
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