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NTIS 바로가기주관연구기관 | 인오켐 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-07 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201400004183 |
과제고유번호 | 1425064294 |
사업명 | 첨단연구장비활용사업 |
DB 구축일자 | 2014-05-10 |
키워드 | 메모리.고순도.PRAM.Silica sol.Colloidal.impurity.CMP. |
1. 기술개발목표
가. TEOS(Tetraethyl orthosilicate)를 출발 원료물질로 하는 30~40nm 크기의 narrow한 고순도 Silica sol의 합성 및 사이즈 조절기술 확립
나. Sodium silicate를 출발 물질로 하는 30~40nm 크기의 narrow한 고순도 Silica sol의 합성 및 이를 정제하는 기술 확립
다. 제조된 Silica sol을 필터 기술을 통하여 1㎛ over 과립자를 5,000ea 이하로 제거
라. 제조된 Silica sol을 정제기술을 통하여 제조된 Si
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