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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)나노테크 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-08 |
과제시작연도 | 2013 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500015577 |
과제고유번호 | 1425081929 |
사업명 | 구매조건부신제품개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-10-10 |
키워드 | Hot Plate.Heating Pedestal.Cooing Pedestal.Wafer.Integration. |
□개발목표
계 획
대면적 반도체 기판용 Pedestal 부품개발
실 적
Hot Plate 및 Cooling, Heating Pedestal 부품개발
□정량적 목표항목 및 달성도
1. Heating 온도:계획( 300℃),실적( 300℃용 히터 개발완료)
2. Heating 균일도:계획( ±1.5%),실적( ±0.95% 온도 균일도 달성)
3. Heater Leak Rate:계획( ≤5×10-8),실적( ≤1.8×10-9Torr/sec 달성 )
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