초록 ▼

◦ DRAM 커패시터의 전극막에 사용할 수 있는 재료의 양산기술 및 장비 개발

-환원 반응 기반의 Ru 전극막 원자층증착공정 기술 개발
(등가산화막 두께 8Å, Leakage 2 order 개선 (0.8V)_@ TiN 전극에서 Ru전극 적용 시)

- 플라즈마 처리 공정을 이용한 TiN 하부전극막 산화저항성 향상 기술 개발
(WIW Uniformity > 95%, BTB Uniformity > 97%, WTW Uniformity > 97% Particle < 30ea (> 0.12㎛),플라즈마 처리

◦ DRAM 커패시터의 전극막에 사용할 수 있는 재료의 양산기술 및 장비 개발

-환원 반응 기반의 Ru 전극막 원자층증착공정 기술 개발
(등가산화막 두께 8Å, Leakage 2 order 개선 (0.8V)_@ TiN 전극에서 Ru전극 적용 시)

- 플라즈마 처리 공정을 이용한 TiN 하부전극막 산화저항성 향상 기술 개발
(WIW Uniformity > 95%, BTB Uniformity > 97%, WTW Uniformity > 97% Particle < 30ea (> 0.12㎛),플라즈마 처리후 In-Situ ZrO 성장의 생산성 (@ 1x nm)：> 12 매/sys.)

- Ru 전극막 증착 공정 및 TiN 전극막 플라즈마 처리를 위한 양산적용이 가능한 수준의 장비개발
(Step Coverage >95%, Uniformity >95%

( 출처 : 보고서 요약서 4p )

Abstract ▼

Ⅳ. Result of R&D
- We have developed mass production technology and equipment for materials used in electrode film of DRAM capacitor(Satisfied quantitative targets of uniformity, step coverage, particle, and productivity)

- We have Secured Characteristics of capacity and leakage Current fr

Ⅳ. Result of R&D
- We have developed mass production technology and equipment for materials used in electrode film of DRAM capacitor(Satisfied quantitative targets of uniformity, step coverage, particle, and productivity)

- We have Secured Characteristics of capacity and leakage Current from Three-Dimensional MIM Capacitors(Securing the capacity and leakage current characteristics under the conditions satisfying the quantitative goal of mass production equipment)

- The mass production process equipment is under joint development in the research institute of the device company.

( 출처 : SUMMARY 6p )

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 4
• 요 약 문 ... 5
• SUMMARY ... 6
• CONTENTS ... 7
• 목차 ... 8
• 제1장 연구개발과제의 개요 ... 10
• 1. 연구개발의 필요성 ... 10
• 2. 연구개발 목표 및 내용 ... 13
• 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 16
• 1. 국내외 관련 분야 기술‧제품의 개발현황 ... 16
• 2. 연구개발 결과가 국내외 기술‧제품 개발 현황에서 차지하는 위치 ... 18
• 제3장 연구개발 수행 내용 및 결과 ... 20
• 1. 최종연구목표(성과목표 및 평가지표) 달성 내용 ... 20
• 2. 목표 달성 내용 요약 ... 21
• 3. 주요 상용화 개발 내용 및 결과 ... 23
• 4. 개발 성과 ... 82
• 5. 관련 산업·기술 분야에의 기여도 ... 84
• 제4장 연구개발 결과의 활용 계획(종료 이후 사업 계획) ... 86
• 1. 시장 현황 및 사업화 전망 ... 86
• 2. 과제종료 시점까지의 사업화 실적 및 향후 계획 ... 87
• 3. 개발결과(기술, 제품)의 응용·확장성 ... 88
• 제5장 연구개발 과정에서 수집한 산업기술정보 ... 90
• 제6장 연구 시설‧장비 구입 및 관리 현황 ... 92
• 제7장 참고문헌 ... 94
• 제8장 최종평가 결과 및 이에 대한 원인 분석 ... 96
• 부록 1. 성과목표 및 평가지표의 달성도를 객관적으로 증빙할 수 있는 공인시험성적서, 시험평가 Data, 도면, 설계도 등 ... 98
• 부록 2. 사업화 매출실적 증빙자료 ... 114
• 끝페이지 ... 114