초록

플라즈마 공정에 대한 진단과 소재, 장비 및 부품의 신뢰성 평가 데이터 등을 종합적으로 활용하여 공정/장비의 가상계측과 이상판단이 가능한 예측 S/W 및 제어모듈 (APECM: Advanced Process & Equipment Control Module)을 개발하기 위한 요소기술들에 대한 개발을 진행함

( 출처 : 보고서 요약서 3p )

Abstract ▼

IV. Result of the study
In this research, we developed integrated plasma diagnostics system for plasma modeling and simulation. Also, we developed plasma chemistry full set data for plasma etching process, and compare with experimental data, we enhanced accuracy of plasma simulation result. This

IV. Result of the study
In this research, we developed integrated plasma diagnostics system for plasma modeling and simulation. Also, we developed plasma chemistry full set data for plasma etching process, and compare with experimental data, we enhanced accuracy of plasma simulation result. This results and developed technology can apply to the real plasma processing technology.

Here we developed real-time data management system for data analysis and exchange. we applied AI and machine learning algorithms to optical emission spectroscopic data analysis, the possibility of overcoming existing technical limitations was identified.

We developed optical measurements error factors and analysis techniques for plasma. We simulated OES measurement environment using the established OES error measuring/analysis system and derived OES measurement error factors. Based on this analysis, we analyzed the political contributions by measurement error to confirm quantitative error reduction according to control of error sources and to verify feasibility of securing OES reproducibility.

In addition, it was confirmed that the possibility of reproducibility of measurement of contaminated particles at the plasma installation part of complex gas by analyzing the cause of measurement error of the pollution particle sensor and establishing a standard particle calibration system is confirmed. In addition, the basic corrosion resistance assessment data of the plasma installation components were database. Based on this, it was confirmed that the material properties of coating components, plasma etching properties, and the base data can be used to understand sources of contaminants.

( 출처 : SUMMARY 7p )

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 3
• 요약문 ... 4
• SUMMARY ... 6
• CONTENTS ... 8
• 목차 ... 9
• 제1장 연구과제의 개요 ... 11
• 제1절 연구의 목적 ... 11
• 제2절 연구의 필요성 ... 12
• 제3절 연구의 범위 ... 15
• 1. 융합연구 최종목표 ... 15
• 2. 융합연구 최종 목표에 대한 세부내용 ... 15
• 3. 선행연구(Pilot study; Small scale study) 목표 및 내용 ... 16
• 4. 연구진 구성 및 세부과제별 참여기관 역할 ... 17
• 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 18
• 제1절 연구개발 대상기술의 개요 ... 18
• 1. APC(Advanced Process Control) ... 18
• 2. 가상계측(VM, Virtual Metrology) ... 19
• 3. 플라즈마 진단 센서 ... 21
• 제2절 기술개발 동향 ... 23
• 제3절 논문 및 특허분석 ... 25
• 1. 논문 동향 ... 25
• 2. 특허 동향 ... 29
• 제3장 연구수행 내용 및 결과 ... 35
• 제1절 연구수행 내용의 개요 ... 35
• 제2절 연구수행 내용 및 결과 ... 39
• 1. 선행연구 기술트리 ... 39
• 2. 선행연구 기술트리에 따른 Milestone 및 Activity List 도출 ... 40
• 3. Milestone 연구 내용 및 연구 결과 요약 ... 41
• 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 88
• 제1절 연구결과의 평가방법 ... 88
• 제2절 연구목표 달성도 ... 89
• 제3절 관련분야 기술발전에의 기여 ... 92
• 제5장 연구결과의 활용계획 ... 93
• 제6장 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 100
• 제7장 참고문헌 ... 103
• 부록. 연구성과 집계 ... 104
• 끝페이지 ... 107