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[국가R&D연구보고서] 10nm급 초미세 SADP 공정용 건식식각 장비 개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 (주)에이피티씨
연구책임자 김남헌
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2016-07
과제시작연도 2015
주관부처 산업통상자원부
Ministry of Trade, Industry and Energy
연구관리전문기관 한국산업기술평가관리원
Korea Evaluation Institute of Industrial Technology
등록번호 TRKO201800039537
과제고유번호 1711026077
사업명 전자정보디바이스산업원천기술개발
DB 구축일자 2018-11-03
키워드 건식식각.Self-Aligned Double Patterning.Tunable ESC.Smart Seasoning.RF Pulsing.

초록 ▼

□ 핵심기술
균일한 고밀도 플라즈마 생성을 위한 플라즈마 소스 기술과 Etch Rate 균일도를 향상시키기 위한 Tilting Control 기술, CD 균일도 향상을 위한 Multi-zone 온도 조절용 정전척 기술

□ 최종목표
Oxide 및 Poly 식각이 가능한 10㎚급 초미세 SADP(Self Aligned Double Patterning) 공정용 건식식각 장비 개발

□ 개발내용 및 결과
1. 고밀도 플라즈마 생성 기술
• Plasma Density: > 1E11/㎤, Plasm

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 제출문 ... 2
  • 기술개발사업 최종보고서 초록 ... 3
  • 기술개발사업 주요 연구성과 ... 7
  • 목차 ... 14
  • 제 1 장 서론 ... 15
  • 제 1 절 과제의 개요 ... 15
  • 제 2 절 개발 대상 기술･제품의 중요성 ... 17
  • 제 2 장 과제 수행의 내용 및 결과(기술개발 내용 및 방법) ... 21
  • 제 1 절 최종 목표 및 평가 방법 ... 21
  • 제 2 절 단계 목표 및 평가 방법 ... 22
  • 제 3 절 연차별 개발 내용 및 개발 범위 ... 26
  • 제 4 절 수행 결과의 보안등급 ... 43
  • 제 5 절 유형적 발생품(연구시설, 연구장비 등) 구입 및 관리 현황 ... 44
  • 제 3 장 결과 ... 45
  • 제 1 절 연구개발 최종 결과 ... 45
  • 1. 연구개발 추진 일정 ... 45
  • 2. 연구개발 추진 실적 ... 49
  • 3. 기술개발 결과의 유형 및 무형 성과 ... 217
  • 제 2 절 연구개발 추진 체계 ... 226
  • 1. 각 기관/기업별 역할 ... 226
  • 2. 추진 체계 ... 227
  • 3. 추진 내역 ... 227
  • 제 3 절 고용 창출 효과 ... 229
  • 제 4 절 자체보안관리진단표 ... 230
  • 제 4 장 사업화 계획 ... 231
  • 제 1 절 시장 현황 및 전망 ... 231
  • 제 2 절 사업화 계획 ... 232
  • 1. 사업화 소요기간, 예상 매출 규모, 시장 점유율 ... 232
  • 2. 사업화 전략 ... 232
  • 제 3 절 향후 추가 기술 개발 계획(개발기술 응용 등) ... 233
  • 끝페이지 ... 234

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