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NTIS 바로가기주관연구기관 | 부산대학교 Busan National University |
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연구책임자 | 김진석 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-04 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000002105 |
과제고유번호 | 1345297382 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | 플라즈마.시뮬레이션.자기제어.ALE. |
□ 연구개요
이 연구의 최종 목표는 sub-10나노 반도체 공정의 문제점을 극복을 위한 원자층 식각(Atomic layer etching, ALE) 공정의 개선 및 선행기술 확보이다. 이를 위하여 첫째, ALE 공정에서 자기제어 반응이 성립하는 조건 도출하며 둘째, ALE 공정에서 균일한 식각 profile을 위한 조건 도출, 셋째, ALE 공정용 플라즈마와 표면반응 통합 계산모듈 개발이 이 연구의 세부적인 최종 목표이다.
이를 위하여 각 연차별로 1차년도에는 ALE 공정 식각 profile 균일도 향상 방안 연구 및 A
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