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원자층 식각 공정을 위한 플라즈마 자기제어 표면반응 전산모사 연구
Numerical simulation of plasma self-limiting surface reaction for an atomic layer etching process 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 부산대학교
Busan National University
연구책임자 김진석
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2019-04
과제시작연도 2019
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202000002105
과제고유번호 1345297382
사업명 개인기초연구(교육부)(R&D)
DB 구축일자 2020-07-29
키워드 플라즈마.시뮬레이션.자기제어.ALE.

초록

□ 연구개요
이 연구의 최종 목표는 sub-10나노 반도체 공정의 문제점을 극복을 위한 원자층 식각(Atomic layer etching, ALE) 공정의 개선 및 선행기술 확보이다. 이를 위하여 첫째, ALE 공정에서 자기제어 반응이 성립하는 조건 도출하며 둘째, ALE 공정에서 균일한 식각 profile을 위한 조건 도출, 셋째, ALE 공정용 플라즈마와 표면반응 통합 계산모듈 개발이 이 연구의 세부적인 최종 목표이다.
이를 위하여 각 연차별로 1차년도에는 ALE 공정 식각 profile 균일도 향상 방안 연구 및 A

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 연구결과 요약문 ... 2
  • 목차 ... 3
  • 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
  • ○ 연구 배경 ... 4
  • ○ 연구의 필요성 ... 4
  • ○ 최종 연구 목표 ... 5
  • 2. 연구수행내용 및 연구결과 ... 5
  • ○ ALE 공정 식각 profile 균일도 향상 방안 연구 ... 5
  • 3. 연구개발결과의 중요성 ... 8
  • ○ 학문적/기술적 측면 ... 8
  • ○ 경제적·산업적 측면 ... 8
  • ○ 사회적 측면 ... 9
  • 4. 참고문헌 ... 9
  • 5. 연구성과 ... 9
  • 끝페이지 ... 9

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참고문헌 (25)

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