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NTIS 바로가기본 논문에서는 마이크로웨이브와 정자장을 이용하여 플라즈마의 밀도를 높임으로서 기판을 가열하지 않고도 양질의 박막을 기를 수 있는 ECR 플라즈마 CVD 장비를 개발하였다. Langmuir 프루브를 이용하여 압력과 자장 즉 챔버내의 플라즈마 모드를 바꾸면서 ECR 플라즈마의 특성을 살펴보았으며, 기판을 가열하지 않은 상태에서 박막성장을 위한 최적조건을 찾기 위해 자장의 모양, 압력 그리고 기체의 흐름을 조절하며 실리콘 질화 박막을 기르고 ellipsometer 와 ...
A plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system suitable for deposition of good quality film without substrate heating, which uses microwave and static magnetic field to enhance plasma density through the electron cyclotron resonance (ECR), is successfully developed. The ECR plasma is cha...
저자 | Kang, Seog Weon |
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학위수여기관 | 한국과학기술원 |
학위구분 | 국내석사 |
학과 | 전기 및 전자공학과 |
발행연도 | 1990 |
총페이지 | [ii], 42, [1] p. |
키워드 | Silicon nitrade Cyclotron resonance Plasma frequencies SemiconductorsEtching 플라스마 CVD 이온 사이클로트론 공명 플라스마 에칭 Langmuir 탐침 Plasma-enhanced chemical vapor deposition |
언어 | eng |
원문 URL | http://www.riss.kr/link?id=T10517679&outLink=K |
정보원 | 한국교육학술정보원 |
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