OLED 디스플레이는 상용화 된 첨단 디스플레이의 일종으로 유기물을 발광층으로 이용하여 빛과 3원색을 구현하는 기술이다. OLED 디스플레이를 생산하기 위하여 세정공정을 통해 fine metal mask(FMM)를 이용한 유기물의 상향식 증착 공정을 진행한다. 증착 공정에 따라 발생한 오염을 세정공정 제거하는 것이 필수적이다. 높은 성능을 구현하기 위해 새로이 개발된 물질의 사용이 필요하며, 이에 적합한 신규 세정 용액과 세정 공정의 개발이 필연적이다. 특히 대면적 OLED 디스플레이를 생산하기 위해서 세정 공정을 통한 높은 수준의 유무기 오염 제거율과 적합한 세정 후 연계 공정이 가능한 공정과 용액의 개발이 필요하다. 또한 세정 공정의 효율화와 수명을 개선하여 보다 친환경적인 공정을 도입하는 것이 지속적으로 요구되고 있다. 세정 공정의 효율화와 수명을 개선 하는 개발에 선행되어야 할 것은 공정의 상태에 대한 직접적이고 정확한 분석이다. 현재까지의 직접적인 용액분석은 전문적 인력과 시간적 비용이 발생하는 적정법을 기준으로 진행되어 왔다. 이를 개선하기 위한 단시간 시료 직접 분석 방법이 정확한 상태 분석에 필요하며, 분석 결과를 바탕으로 용액의 공정 중 상태 평가와 신규 공정 및 용액 개발 과정에 대한 보다 진보된 대응을 할 수 있을 것이다. 이번 연구에서는 OLED 디스플레이 생산 기술 중 세정 공정의 용액과 공정 그리고 공정의 상태를 파악하는 것에 대해 보고하였다. 기본적인 세정 용액에 공정에 따른 FMM invar 표면의 변화를 AFM과 FE-SEM을 이용하여 분석한 결과를 정리하였다. 이와 더불어, ...
OLED 디스플레이는 상용화 된 첨단 디스플레이의 일종으로 유기물을 발광층으로 이용하여 빛과 3원색을 구현하는 기술이다. OLED 디스플레이를 생산하기 위하여 세정공정을 통해 fine metal mask(FMM)를 이용한 유기물의 상향식 증착 공정을 진행한다. 증착 공정에 따라 발생한 오염을 세정공정 제거하는 것이 필수적이다. 높은 성능을 구현하기 위해 새로이 개발된 물질의 사용이 필요하며, 이에 적합한 신규 세정 용액과 세정 공정의 개발이 필연적이다. 특히 대면적 OLED 디스플레이를 생산하기 위해서 세정 공정을 통한 높은 수준의 유무기 오염 제거율과 적합한 세정 후 연계 공정이 가능한 공정과 용액의 개발이 필요하다. 또한 세정 공정의 효율화와 수명을 개선하여 보다 친환경적인 공정을 도입하는 것이 지속적으로 요구되고 있다. 세정 공정의 효율화와 수명을 개선 하는 개발에 선행되어야 할 것은 공정의 상태에 대한 직접적이고 정확한 분석이다. 현재까지의 직접적인 용액분석은 전문적 인력과 시간적 비용이 발생하는 적정법을 기준으로 진행되어 왔다. 이를 개선하기 위한 단시간 시료 직접 분석 방법이 정확한 상태 분석에 필요하며, 분석 결과를 바탕으로 용액의 공정 중 상태 평가와 신규 공정 및 용액 개발 과정에 대한 보다 진보된 대응을 할 수 있을 것이다. 이번 연구에서는 OLED 디스플레이 생산 기술 중 세정 공정의 용액과 공정 그리고 공정의 상태를 파악하는 것에 대해 보고하였다. 기본적인 세정 용액에 공정에 따른 FMM invar 표면의 변화를 AFM과 FE-SEM을 이용하여 분석한 결과를 정리하였다. 이와 더불어, immersion 방법과 sonication 방법에 따른 세정 성능 평가를 Fluorescent microscopy를 통해 비교하였다. 특징적으로는 OLED 디스플레이에 사용되는 세정 공정법과 신규 용액을 Raman spectroscopy 장비를 이용하여 직접적으로 분석하였다. 이를 통해 유기물 세정제인 NMP에 Alq3 용해가 되는 세정 시 fluorescence와 독립적인 peak의 비율에 따라 직접적인 선형 방정식을 도출하였다. 도출한 선형 방정식을 이용하여 세정 용액의 직접분석으로 용액 내부의 오염물에 대한 정량적인 분석이 가능한 방법을 제시하였다. 더 나아가 Raman spectroscopy와 In-situ kit를 결합하여, FMM 소재의 세정 공정 중 실시간 공정 상태의 평가를 그래프 포화현상을 통해 도출하는 방법을 제시하였고, 이를 2 가지 이상의 방법으로 검증하였다.
OLED 디스플레이는 상용화 된 첨단 디스플레이의 일종으로 유기물을 발광층으로 이용하여 빛과 3원색을 구현하는 기술이다. OLED 디스플레이를 생산하기 위하여 세정공정을 통해 fine metal mask(FMM)를 이용한 유기물의 상향식 증착 공정을 진행한다. 증착 공정에 따라 발생한 오염을 세정공정 제거하는 것이 필수적이다. 높은 성능을 구현하기 위해 새로이 개발된 물질의 사용이 필요하며, 이에 적합한 신규 세정 용액과 세정 공정의 개발이 필연적이다. 특히 대면적 OLED 디스플레이를 생산하기 위해서 세정 공정을 통한 높은 수준의 유무기 오염 제거율과 적합한 세정 후 연계 공정이 가능한 공정과 용액의 개발이 필요하다. 또한 세정 공정의 효율화와 수명을 개선하여 보다 친환경적인 공정을 도입하는 것이 지속적으로 요구되고 있다. 세정 공정의 효율화와 수명을 개선 하는 개발에 선행되어야 할 것은 공정의 상태에 대한 직접적이고 정확한 분석이다. 현재까지의 직접적인 용액분석은 전문적 인력과 시간적 비용이 발생하는 적정법을 기준으로 진행되어 왔다. 이를 개선하기 위한 단시간 시료 직접 분석 방법이 정확한 상태 분석에 필요하며, 분석 결과를 바탕으로 용액의 공정 중 상태 평가와 신규 공정 및 용액 개발 과정에 대한 보다 진보된 대응을 할 수 있을 것이다. 이번 연구에서는 OLED 디스플레이 생산 기술 중 세정 공정의 용액과 공정 그리고 공정의 상태를 파악하는 것에 대해 보고하였다. 기본적인 세정 용액에 공정에 따른 FMM invar 표면의 변화를 AFM과 FE-SEM을 이용하여 분석한 결과를 정리하였다. 이와 더불어, immersion 방법과 sonication 방법에 따른 세정 성능 평가를 Fluorescent microscopy를 통해 비교하였다. 특징적으로는 OLED 디스플레이에 사용되는 세정 공정법과 신규 용액을 Raman spectroscopy 장비를 이용하여 직접적으로 분석하였다. 이를 통해 유기물 세정제인 NMP에 Alq3 용해가 되는 세정 시 fluorescence와 독립적인 peak의 비율에 따라 직접적인 선형 방정식을 도출하였다. 도출한 선형 방정식을 이용하여 세정 용액의 직접분석으로 용액 내부의 오염물에 대한 정량적인 분석이 가능한 방법을 제시하였다. 더 나아가 Raman spectroscopy와 In-situ kit를 결합하여, FMM 소재의 세정 공정 중 실시간 공정 상태의 평가를 그래프 포화현상을 통해 도출하는 방법을 제시하였고, 이를 2 가지 이상의 방법으로 검증하였다.
OLED display technology is one of the high performance display that made of organic emissive layer. Include specific organic emissive layer OLED display consist with layers for deliver hole and electron for proper emission of 3 core color. For fabricate these high performance OLED display fine metal...
OLED display technology is one of the high performance display that made of organic emissive layer. Include specific organic emissive layer OLED display consist with layers for deliver hole and electron for proper emission of 3 core color. For fabricate these high performance OLED display fine metal mask(FMM) evaporation deposition is essential technique now on. Developing higher performance of OLED display is based on using better material for organic layers. It demand of proper cleaning process for control whole fabrication yield and suppress particle or residue. Especially manufacturing technology of high quality and larger area OLED display need to treat the pollution more delicately because of better yield. The processability of OLED display is highly related to controlling contaminants of processes. Improving cleaning process is one of the critical point in manufacturing larger area of display. Before improving cleaning technologies and chemicals the direct analyze and accurate evaluation of condition of cleaning treatment is needed. Until now this analyzation is highly cost of time, man and material resource. Short period of direct analysis method is necessary, making concrete information of cleaning process and chemical solution could be contributed to develop advancing. In this study report basic surfacial information of FMM invar after the cleaning process with cleaning solution by using scanning electron microscopy and atomic force microscopy. Also compare using fluorescent microscopy residue results about difference between immersion and sonication cleaning method. Importantly devise the method of Raman spectroscopy for analyzing cleaning solution, state of cleaning process. And developed in-situ flow kit for simulation experiment. For quantitative analysis method of using Raman spectroscopy we derived linear equation while dissolving NMP and Alq3 material. Used this equation for real time evaluation of solution state, quantitative analysis between other material, contamination of solution and else. This method will improve by linking developed in-situ Raman kit to AFM.
OLED display technology is one of the high performance display that made of organic emissive layer. Include specific organic emissive layer OLED display consist with layers for deliver hole and electron for proper emission of 3 core color. For fabricate these high performance OLED display fine metal mask(FMM) evaporation deposition is essential technique now on. Developing higher performance of OLED display is based on using better material for organic layers. It demand of proper cleaning process for control whole fabrication yield and suppress particle or residue. Especially manufacturing technology of high quality and larger area OLED display need to treat the pollution more delicately because of better yield. The processability of OLED display is highly related to controlling contaminants of processes. Improving cleaning process is one of the critical point in manufacturing larger area of display. Before improving cleaning technologies and chemicals the direct analyze and accurate evaluation of condition of cleaning treatment is needed. Until now this analyzation is highly cost of time, man and material resource. Short period of direct analysis method is necessary, making concrete information of cleaning process and chemical solution could be contributed to develop advancing. In this study report basic surfacial information of FMM invar after the cleaning process with cleaning solution by using scanning electron microscopy and atomic force microscopy. Also compare using fluorescent microscopy residue results about difference between immersion and sonication cleaning method. Importantly devise the method of Raman spectroscopy for analyzing cleaning solution, state of cleaning process. And developed in-situ flow kit for simulation experiment. For quantitative analysis method of using Raman spectroscopy we derived linear equation while dissolving NMP and Alq3 material. Used this equation for real time evaluation of solution state, quantitative analysis between other material, contamination of solution and else. This method will improve by linking developed in-situ Raman kit to AFM.
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