[논문]수직 원통형 CVD 반응로에서 박막의 균일성과 증착률 최적화에 대한 수치해석적 연구

김종희; 김홍제; 오성모; 이건휘; 이봉구

수직 원통형 CVD 반응로에서 박막의 균일성과 증착률 최적화에 대한 수치해석적 연구
Numerical Analysis for Optimization of Film Uniformity and Deposition Grow Rate in the Vertical Cylindric Reactor 원문보기

한국정밀공학회지 = Journal of the Korean Society for Precision Engineering, v.19 no.8 = no.137, 2002년, pp.92 - 99

김종희 (한국에너지기술연구원) , 김홍제 (한국에너지기술연구원) , 오성모 (원광대학교 기계공학과) , 이건휘 (원광대학교 기계공학과) , 이봉구 (원광대학교 기계공학과)

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This work investigated the optimal condition for an uniform deposition growth rate in the vertical cylindric CVD chamber. Heat transfer, surface chemical reaction and mass diffusion in the flow field of CVD chamber h,id been computed using Fluent v5.3 code. A SIMPLE based finite Volume Method (FVM) was adopted to solve the fully elliptic equations for momentum, temperature and concentration of a chemical species. The numerical analysis results show good agreements with the measurements obtained by N. Yoshikawa. The results obtained by the numerical analysis showed that the film growth rate in the center of a susceptor is increasing, as the inner flow approaches to the forced convection. To the contrast, as it approaches to the natural convection, that in the outside of a susceptor is increasing. As the Reynolds number increases, the uniformity may not hold due to the larger temperature gradient at a susceptor surface. Therefore, when the temperature gradient on the surface of a susceptor is zero, the film growth rate becomes uniform on most surface.

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참고문헌 (11)

De Lodyguime, USP 575002, 1893
Powell, C. F., 'Vapor Deposition,' Wiley, 1966
이시우, 이전, 'CVD 핸드북,' 반도출판사, 1993
Jensen, K. F., Einset, E. O., Fortiadis, D. I., 'Flow Phenomena in Chemical Vapor Deposition of Thin Films,' Ann. Rev. Fluid Mech, Vol. 23, pp. 197-232, 1991

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Fotiadis, D. I., Kremer A. M., McKenna, D. R. and Jensen, K. F., 'Complex Flow Phenomena in Vertical MOCVD Reactors : Effects on Deposition Uniformity and I nterfacial Abruptness,' J. Crystal Growth, Vol. 85, pp. 154-164, 1987

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Fortiadis, D. I., Kieda, S. and Jensen, K. J., 'Transport Phenomena in Vertical Reactors for Metalorganic Vapor Phase Epitaxy,' J. Crystal Growth, Vol. 102, pp. 441-470, 1990

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Wang. C. A., Patnaik, S., Caunt, J. W. and Brown, R. A., 'Growth Characteristics of a Vertical Rotating-disk OMVPE Reactor,' J. Crystal Growth, Vol. 93, pp. 228-234, 1988

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Moffat, H. and Jensen, K., 'Complex Flow Phenomena in a MOCVD Reactors,' J. Crystal Growht, Vol. 77, pp. 108-119, 1986

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木枝茂和, Jensen, K. F., '第24回日本傳熱シンポヅウム講演論文集', p. 251, 1987
N. Yoshikawa, A. Kikuchi and S. Taniguchi, 'CVD Process Simulation for TiN, Mo Film Growth Rate Distributions,' Materials Trans., JIM, Vol. 40, No. 11, pp. 1323-1330, 1999

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N. Yoshikawa and A. Kikuchi, 'Simulation of Growth Rate of Chemical-Vapour-Deposited TiN Film along the Axial Directiion in a Tubular Reactor,' Materials Trans., JIM, Vol. 35, No. 9, pp. 611-615, 1994

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