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NTIS 바로가기전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문, v.52 no.10, 2003년, pp.451 - 457
홍능표 (광운대 공대 전기공학과) , 홍진웅 (광운대 공대 전기공학과)
The silicon wafer is stable status at room temperature, but it is weak at high temperatures which is necessary for it to be fabricated into a power semiconductor device. During thermal diffusion processing, a high temperature produces a variety thermal stress to the wafer, resulting in device failur...
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