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NTIS 바로가기반도체및디스플레이장비학회지 = Journal of the semiconductor & display equipment technology, v.4 no.4 = no.13, 2005년, pp.19 - 26
이상호 (한양대학교 재료화학공학부) , 이승호 (한양대학교 재료화학공학부) , 김규채 (한양대학교 재료화학공학부) , 권태영 (한양대학교 재료화학공학부) , 박진구 (한양대학교 재료화학공학부) , 배소익 ((주)LG실트론 기술연구소) , 이건호 ((주)LG실트론 기술연구소) , 김인정 ((주)LG실트론 기술연구소)
The process optimization of ozone concentration and half life time was investigated in ultra pure water and alkaline solutions for the wet cleaning of silicon wafer surface at room temperature. In the ultra pure water,. the maximum concentration (35 ppm) of ozone was measured at oxygen flow rate of ...
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