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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.9 no.3, 2010년, pp.53 - 58
In this study, we have investigated the effect of the ambient gases on the characteristics of IZO thin films for the OLED (organic light emitting diodes) devices. For this purpose, IZO thin films were deposited by RF magnetron sputtering under various ambient gases (Ar,
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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ITO 박막의 장점은? | 이러한 투명 전도성 산화물 박막 중 가장 널리 사용되고 있는 물질인 ITO (Indium Tin Oxide) 박막은 ntype의 전도특성을 갖는 산화물 반도체로서 넓은 밴드 갭과 함께 가시광 영역에서의 높은 투과율과 전기전도성을 나타낸다[4,5]. 그러나 ITO 박막이 높은 전기 전도특성과 광투과율을 얻기 위해서는 250℃ 이상의 고온 증착이 요구되며 300℃ 이상에서 증착 후 열처리를 해야만 한다. | |
Indium Tin Oxide 박막의 높은 전기 전도특성과 광투과율을 얻기 위해서는 고온이 요구되는데 이로 인하여 어떠한 문제가 발생하는가? | 그러나 ITO 박막이 높은 전기 전도특성과 광투과율을 얻기 위해서는 250℃ 이상의 고온 증착이 요구되며 300℃ 이상에서 증착 후 열처리를 해야만 한다. 이러한 고온 공정들은 ITO 박막의 결정화를 강화시켜 결정립에 의한 표면 거칠기를 증가시키고 그에 따라 소자의 안정성을 현저하게 저하시키는 요인이 된다. 또, 원료 물질인 인듐의 독성, 스퍼터링 시 음이온 충격에 의한 막 손상에 의한 전기저항 증가의 문제점이 있으며 유기발광소자의 투명전극으로 쓰일 경우에 유기물과의 계면 부적합성, 수소플라즈마에 대한 불안정성 등이 문제점으로 지적되고 있다[4,5]. | |
현재의 디스플레이 산업에서 투자, 연구가 집중되는 분야는 무엇인가? | 현재의 디스플레이 산업은 LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display panel), FED (Field Emission Display), OLED (Organic Light Emitting Diode) 등의 각종 평판 디스플레이 (FPD, Flat Panel Display)의 개발에 많은 투자와 연구가 집중되고 있으며, 최근에는 Flexible Display의 개발에 까지 그 영역을 넓히고 있다. 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 공통 기반기술인 고품위 투명 전도성 산화물 (TCO : Transparent Conducting Oxide) 박막 재료의 개발 및 제조 기술들에 대한 연구가 급속히 증가하고 있다[1-3]. |
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