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NTIS 바로가기Particle and aerosol research = 한국입자에어로졸학회지, v.14 no.2, 2018년, pp.41 - 47
박수빈 (한국생산기술연구원 나노오염제어연구실) , 유경훈 (한국생산기술연구원 나노오염제어연구실) , 이건형 (삼성디스플레이 FT기술그룹)
Numerical analysis was conducted to characterize particle deposition onto a heated horizontal semiconductor wafer in vacuum environment. In order to calculate the properties of gas surrounding the wafer, the gas was assumed to obey the ideal gas law. Particle transport mechanisms considered in the p...
핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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반도체 웨이퍼 표면상에 침착된 입자들은 집적회로의 무엇을 유발시켜 제품 수율 및 품질, 신뢰성 저하의 주요한 원인이 되는가? | 반도체 웨이퍼 표면상에 침착된 입자들은 집적회로의 패턴 결함(pattern defect)을 유발시켜 제품 수율 및 품질, 신뢰성 저하의 주요한 원인이 되므로 입자오염(particle contamination) 문제는 마이크로․나노 전자산업에 있어 매우 중요하다. 반도체 제조공정이 비록 초청정 클린룸(super cleanroom)내에서 이루어진다 하더라도 입자오염 원인은 공정 자체, 장비 내부에도 존재한다고 보고되고 있다(Nakamae et al. | |
집적회로의 패턴 결함의 원인이 되는 입자오염의 원인은 어디에 존재한다고 보고되고있는가? | 반도체 웨이퍼 표면상에 침착된 입자들은 집적회로의 패턴 결함(pattern defect)을 유발시켜 제품 수율 및 품질, 신뢰성 저하의 주요한 원인이 되므로 입자오염(particle contamination) 문제는 마이크로․나노 전자산업에 있어 매우 중요하다. 반도체 제조공정이 비록 초청정 클린룸(super cleanroom)내에서 이루어진다 하더라도 입자오염 원인은 공정 자체, 장비 내부에도 존재한다고 보고되고 있다(Nakamae et al.,2000). | |
반도체 제조공정은 어디에서 이루어지는가? | 반도체 웨이퍼 표면상에 침착된 입자들은 집적회로의 패턴 결함(pattern defect)을 유발시켜 제품 수율 및 품질, 신뢰성 저하의 주요한 원인이 되므로 입자오염(particle contamination) 문제는 마이크로․나노 전자산업에 있어 매우 중요하다. 반도체 제조공정이 비록 초청정 클린룸(super cleanroom)내에서 이루어진다 하더라도 입자오염 원인은 공정 자체, 장비 내부에도 존재한다고 보고되고 있다(Nakamae et al.,2000). |
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