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Ga2O3초음파분무화학기상증착 공정에서 유동해석을 이용한 균일도 향상 연구
Computational Fluid Dynamics for Enhanced Uniformity of Mist-CVD Ga2O3 Thin Film
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반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.21 no.4, 2022년, pp.81 - 85
하주환 (서울대학교 차세대융합기술연구원 경기도소재부품장비연구사업단) , 이학지 (서울대학교 차세대융합기술연구원 경기도소재부품장비연구사업단) , 박소담 (서울대학교 차세대융합기술연구원 경기도소재부품장비연구사업단) , 신석윤 (서울대학교 차세대융합기술연구원 차세대전자재료연구실) , 변창우 (서울대학교 차세대융합기술연구원 경기도소재부품장비연구사업단)
Abstract
AI-Helper
Mist-CVD is known to have advantages of low cost and high productivity method since the precursor solution is misting with an ultrasonic generator and reacted on the substrate under vacuum-free conditions of atmospheric pressure. However, since the deposition distribution is not uniform, various eff...
주제어
참고문헌 (8)
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