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어닐링이 RF 스퍼터링으로 제작된 Ga2O3/Al2O3/SiC 소자에 미치는 영향 연구
Effect of Annealing on Ga2O3/Al2O3/SiC Devices Fabricated by RF Sputtering 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.21 no.2, 2022년, pp.85 - 89  

이희재 (광운대학교 전자재료공학과) ,  김민영 (광운대학교 전자재료공학과) ,  문수영 (광운대학교 전자재료공학과) ,  변동욱 (광운대학교 전자재료공학과) ,  정승우 (광운대학교 전자재료공학과) ,  구상모 (광운대학교 전자재료공학과)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We reported on annealing effect on Ga2O3/Al2O3/SiC devices grown by radio frequency sputtering method. Post-deposition annealing at 900 ℃ was performed, which results in crystallization in the Ga2O3 films. The major peaks (-401) and (403) of Ga2O3 which was thermally treated at 900 ℃ a...

주제어

참고문헌 (16)

  1. Wu, J., Mi, W., Yang, Z., Chen, Y., Li, P., Zhao, J., ... & Luan, C. (2019). Influence of annealing on the structural and optical properties of gallium oxide films deposited on c-sapphire substrate. Vacuum, 167, 6-9. 

  2. Altuntas, H., Donmez, I., Ozgit-Akgun, C., & Biyikli, N. (2014). Effect of postdeposition annealing on the electrical properties of β-Ga 2 O 3 thin films grown on p-Si by plasma-enhanced atomic layer deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 32(4), 041504. 

  3. Yadav, M. K., Mondal, A., Das, S., Sharma, S. K., & Bag, A. (2020). Impact of annealing temperature on band-alignment of PLD grown Ga2O3/Si (100) heterointerface. Journal of Alloys and Compounds, 819, 153052. 

  4. Wang, Y., Xu, W., You, T., Mu, F., Hu, H., Liu, Y., ... & Hao, Y. (2020). β-Ga2O3 MOSFETs on the Si substrate fabricated by the ion-cutting process. Science China Physics, Mechanics & Astronomy, 63(7), 1-4. 

  5. Byun, D. W., Lee, Y. J., Oh, J. M., Schweitz, M. A., & Koo, S. M. (2021). Morphological and Electrical Properties of β-Ga2O3/4H-SiC Heterojunction Diodes. Electronic Materials Letters, 17(6), 479-484. 

  6. Lee, Y. J., Schweitz, M. A., Oh, J. M., & Koo, S. M. (2020). Influence of annealing atmosphere on the characteristics of Ga2O3/4H-SiC nn heterojunction diodes. Materials, 13(2), 434. 

  7. Vaca, D., Yates, L., Nepal, N., Katzer, D. S., Downey, B. P., Wheeler, V., ... & Kumar, S. (2020, July). Thermal Conductivity of β-Ga2O3 Thin Films Grown by Molecular Beam Epitaxy. In 2020 19th IEEE Intersociety Conference on Thermal and Thermomechanical Phenomena in Electronic Systems (ITherm) (pp. 1011-1016). IEEE. 

  8. Bar-Cohen, A., Albrecht, J. D., & Maurer, J. J. (2011, October). Near-junction thermal management for wide bandgap devices. In 2011 IEEE Compound Semiconductor Integrated Circuit Symposium (CSICS) (pp. 1-5). IEEE. 

  9. Jian, Z., Sayed, I., Liu, W., Mohanty, S., & Ahmadi, E. (2021). Characterization of MOCVD-grown AlSiO gate dielectric on β-Ga2O3 (001). Applied Physics Letters, 118(17), 172102. 

  10. Singh, A. K., Gupta, M., Sathe, V., & Katharria, Y. S. (2021). Effect of annealing temperature on β-Ga2O3 thin films deposited by RF sputtering method. Superlattices and Microstructures, 156, 106976. 

  11. Makeswaran, N., Battu, A. K., Deemer, E., & Ramana, C. V. (2020). Crystal Growth and Structure-Property Optimization of Thermally Annealed Nanocrystalline Ga2O3 Films. Crystal Growth & Design, 20(5), 2893-2903. 

  12. Eklund, P., Sridharan, M., Singh, G., & Bottiger, J. (2009). Thermal Stability and Phase Transformations of γ-/Amorphous-Al2O3 Thin Films. Plasma processes and polymers, 6(S1), S907-S911. 

  13. Zhang, L., Jiang, H. C., Liu, C., Dong, J. W., & Chow, P. (2007). Annealing of Al2O3 thin films prepared by atomic layer deposition. Journal of Physics D: Applied Physics, 40(12), 3707. 

  14. Hirose, M., Nabatame, T., Yuge, K., Maeda, E., Ohi, A., Ikeda, N., ... & Kiyono, H. (2019). Influence of post-deposition annealing on characteristics of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors. Microelectronic Engineering, 216, 111040. 

  15. Goyal, A., Yadav, B. S., Thakur, O. P., Kapoor, A. K., & Muralidharan, R. (2014). Effect of annealing on β-Ga2O3 film grown by pulsed laser deposition technique. Journal of alloys and compounds, 583, 214-219. 

  16. Patel, S. L., Chander, S., Purohit, A., Kannan, M. D., & Dhaka, M. S. (2018). Influence of NH4Cl treatment on physical properties of CdTe thin films for absorber layer applications. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 123, 216-222. 

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