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Analytical capacitance model for 14 nm FinFET considering dual-k spacer

Chinese Physics B, v.26 no.7, 2017년, pp.077303 -   

Zheng, Fang-Lin (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China) ,  Liu, Cheng-Sheng (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China) ,  Ren, Jia-Qi (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China) ,  Shi, Yan-Ling (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China) ,  Sun, Ya-Bin (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China) ,  Li, Xiao-Jin (Shanghai Key Laboratory of Multidimensional Information Processing and the Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241,)

초록이 없습니다.

참고문헌 (18)

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