초록 ▼

본 발명은 적어도 일측면에 돌기를 형성하고 있는 석영글라스물품을 제조할때 사용하는 성형장치를 제공함을 목적으로 한다.상기의 목적으로 달성하기 위해 본 발명의 구성은 제1도에 도시한 바와같이 성형공간을 둘러싼 그라파이트들과, 상기 그라파이트틀내에 석영글라스체를 압착하고, 상기 돌기에 대응하는 암금형과 수용금형을 갖추며, 상기 수용금형과, 상기 암금형 사이의 공간이 협소화 가능하게 구성된 석영글라스체의 성형금형에 있어서, 상기 그라파이트틀과 두개의 그라파이트 금형의 조성을 다르게 하고, 가압성형시 석영글라체에 접촉하는 상기 암금형과 수

본 발명은 적어도 일측면에 돌기를 형성하고 있는 석영글라스물품을 제조할때 사용하는 성형장치를 제공함을 목적으로 한다.상기의 목적으로 달성하기 위해 본 발명의 구성은 제1도에 도시한 바와같이 성형공간을 둘러싼 그라파이트들과, 상기 그라파이트틀내에 석영글라스체를 압착하고, 상기 돌기에 대응하는 암금형과 수용금형을 갖추며, 상기 수용금형과, 상기 암금형 사이의 공간이 협소화 가능하게 구성된 석영글라스체의 성형금형에 있어서, 상기 그라파이트틀과 두개의 그라파이트 금형의 조성을 다르게 하고, 가압성형시 석영글라체에 접촉하는 상기 암금형과 수용금형은 예를들면 소결그라파이트와 같이 다수개의 미소가스투과공을 가지며, 통기성을 가지는 고순도의 그라파이트 재료로 형성하고, 한편, 상기 석영글라스체가 성형와료의 부근에 있어서, 팽창되는 석영글라스체의 외주면에 압접하는 그라파이트틀에 있어서는 상기 암금형과 수용금형보다 굽힘강도가 수단계 큰 그라파이트 재료로 형성되는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

석영글라스체를 1750℃ 내지 2100℃ 전후의 고온기열하에서 0.001kgf/㎠ 내지 1kgf/㎠의 범위로 가압하여 가압성형함으로서 석영글라스물품을 제조하기 위한 성형장치에 있어서, 성형공간을 둘러싼 그라파이트 틀(frame)내에서, 상기 석영글라스체를 압착하여 대향하는 위치에 한벌의 그라파이트금형을 배치하고, 이들은 협소화가능하게 구성된 석영글라스체의 성형금형에 의해 형성되며; 석영글라스체에 접촉하면서 가압성형을 행하는 대향형상의 한벌의 그라파이트금형을 가스 투과율이 0.1㎠/sec(P : 1.5kgf/㎠) 이상이고, 압축강도가

석영글라스체를 1750℃ 내지 2100℃ 전후의 고온기열하에서 0.001kgf/㎠ 내지 1kgf/㎠의 범위로 가압하여 가압성형함으로서 석영글라스물품을 제조하기 위한 성형장치에 있어서, 성형공간을 둘러싼 그라파이트 틀(frame)내에서, 상기 석영글라스체를 압착하여 대향하는 위치에 한벌의 그라파이트금형을 배치하고, 이들은 협소화가능하게 구성된 석영글라스체의 성형금형에 의해 형성되며; 석영글라스체에 접촉하면서 가압성형을 행하는 대향형상의 한벌의 그라파이트금형을 가스 투과율이 0.1㎠/sec(P : 1.5kgf/㎠) 이상이고, 압축강도가 100kgf/㎠ 이상이며, 쇼어(shore)경도가 10 이상이고, 미소가스 투과공들을 가지는 고순도 그라파이트 재료로서 형성하며; 상기 그라파이트틀을 대향형상의 한벌의 그라파이트 금형보다 굽힘강도가 수단계 큰 그라파이트재료로서 형성함을 특징으로 하는 석영글라스물품을 제조하기 위한 성형장치.