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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-1997-0004512 (1997-02-14) |
공개번호 | 10-1998-0068080 (1998-10-15) |
등록번호 | 10-0239752-0000 (1999-10-21) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019970004512 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1997-02-14) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 연마 패드 상에 연마제(slurry)를 고르게 공급하여 연마량을 일정하게 함으로써 웨이퍼의 연마 균일성(uniformity)을 이룰 수 있도록 연마제 디스펜서(dispenser)를 개선한 화학적·기계적 연마장치(CMP)에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 연마제를 연마 패드 상에 공급하는 분배수단과, 웨이퍼를 상기 연마 패드 상부에 고정시키는 고정수단으로 이루어지는 화학적·기계적 연마장치에 있어서, 상기 분배수단은 상기 고정수단 내로 연장되어 설치된 화학적·기계적 연마장치를 개시한다.상기한 본 발명에 의하면, 웨이퍼 주변의
연마제를 연마 패드 상에 공급하는 분배수단과, 웨이퍼를 상기 연마 패드 상부에 고정시키는 고정수단으로 이루어지는 화학적·기계적 연마장치에 있어서,상기 분배수단은 상기 고정수단 내에 형성되는 것을 특징으로 하는 화학적·기계적 연마장치.제 1 항에 있어서, 상기 분배수단은 주공급관과 상기 주공급관에 연통된 다수의 분배관들로 구성되는 것을 특징으로 하는 화학적·기계적 연마장치.제 2 항에 있어서, 상기 분배관들은 상기 웨이퍼 가장자리까지 연장되는 것을 특징으로 하는 화학적·기계적 연마장치.제 3 항에 있어서, 상기 분배관들은 방사형으로
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