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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-1997-0037794 (1997-08-07) |
공개번호 | 10-1999-0015598 (1999-03-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019970037794 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
불화 암모늄(NH4F)과 IPA(isopropyl alcohol: (CH3)2CH2OH)가 1:1 ∼ 1:50의 부피비로 혼합된 혼합액으로 이루어지는 세정액 및 이를 이용한 콘택홀 세정 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에서는 반도체 기판상에 서로 다른 종류의 복수의 산화막을 차례로 적층한다. 상기 복수의 산화막을 동시에 패터닝하여 상기 반도체 기판의 소정 영역을 노출시키는 콘택홀을 형성한다. 상기 콘택홀이 형성된 결과물을 불화 암모늄과 IPA가 1:1 ∼ 1:50의 부피비로 혼합된 혼합액으로 소정 시간 동안 세정한다.
불화 암모늄(NH4F)과 IPA(isopropyl alcohol: (CH3)2CH2OH)가 1:1 ∼ 1:50의 부피비로 혼합된 혼합액으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 세정액.
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