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[한국특허] 강유전체 박막의 제조방법, 강유전체 커패시터, 강유전체메모리 셀 및 강유전체 메모리의 제조방법
METHOD OF MAKING FERROELECTRIC THIN FILM,FERROELECTRIC CAPACITOR, FERROELECTRIC MEMORY CELL ANDMETHOD FOR FABRICATING FERROELECTRIC MEMORY
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-027/04
출원번호 10-2000-0047686 (2000-08-18)
공개번호 10-2001-0039824 (2001-05-15)
등록번호 10-0676594-0000 (2007-01-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1020000047686
발명자 / 주소
  • 나스도루 / 일본국교토후교토시나카교쿠니시노쿄츠카모토쵸*-*
  • 하야시신이치로 / 일본국오오사카후다카츠키시나사하라*-*-*-***
출원인 / 주소
  • 파나소닉 주식회사 / 일본 오오사카후 가도마시 오오아자 가도마 ****반치
대리인 / 주소
  • 김영철 (KIM, Young Chul)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-* 뉴서울빌딩 ***호(신화특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2005-04-22)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 비c축배향의 층형상구조 강유전체 박막의 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 적어도 표면이 구형상 결정구조를 갖는 도전층(12)의 표면 상에 랜덤배향의 층형상구조를 갖는 강유전체 박막(13)을 형성하는 공정을 포함하는 강유전체 박막의 제조방법이다.

대표청구항

적어도 표면이 구형상 결정구조를 갖는 도전층의 상기 표면 상에 랜덤배향의 층형상구조를 갖는 강유전체 박막을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 박막의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [일본] MANUFACTURING METHOD FOR FERROELECTRIC THIN FILM, DIELECTRIC THIN FILM AND INTEGRATED CIRCUIT CONTAINING FERROELECTRIC T | USHIKUBO MAHO, ITO YASUYUKI, YOKOYAMA SEIICHI, OGIMOTO YASUSHI, OGATA NOBUHITO, KOBA MASAYOSHI
  2. [일본] FERROELECTRIC THIN FILM ELEMENT, FABRICATION THEREOF, AND FERROELECTRIC MEMORY ELEMENT | USHIKUBO MAHO, ITO YASUYUKI, YOKOYAMA SEIICHI, MATSUNAGA HIRONORI, KOBA MASAYOSHI
  3. [일본] CAPACITY ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD | NASU TORU, KIBE MAKI, MATSUDA AKIHIRO, IZUTSU YASUFUMI

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