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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2001-0084166 (2001-12-24) |
공개번호 | 10-2003-0054070 (2003-07-02) |
등록번호 | 10-0406584-0000 (2003-11-10) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010084166 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2001-12-24) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 림(rim) 형태의 위상 반전 마스크(PSM) 제조 방법에 관한 것으로서, 림 영역의 임계치수 균일도를 향상시키고 정밀한 임계치수 제어가 가능하도록 하기 위한 것이다. 본 발명에 따르면, 석영 기판 위에 크롬층을 증착한 후, 초기 컨택 홀 영역을 형성하기 위하여 크롬층의 소정 부분을 선택적으로 제거하고, 석영 기판의 전면에 희생막을 증착한 후 전면 식각하여 크롬층의 측벽에 제1 스페이서를 형성한다. 이어서, 희생막의 증착 및 전면 식각을 반복 실시하여 제2 스페이서를 형성하며, 스페이서의 외부로 노출된 석영 기판의 컨택
석영 기판 위에 크롬층을 증착하는 단계;초기 컨택 홀 영역을 형성하기 위하여 상기 크롬층의 소정 부분을 선택적으로 제거하는 단계;상기 석영 기판의 전면에 희생막을 증착한 후 전면 식각하여 상기 크롬층의 측벽에 제1 스페이서를 형성하는 단계;상기 희생막의 증착 및 전면 식각을 반복 실시하여 제2 스페이서를 형성하는 단계;상기 제1, 제2 스페이서의 외부로 노출된 상기 석영 기판의 컨택 홀 영역 상부를 비등방성 식각으로 제거하는 단계; 및상기 제1, 제2 스페이서를 제거하는 단계를 포함하며,상기 제1, 제2 스페이서에 의하여 정해지는
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