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연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

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질화알루미늄 침착 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/06
출원번호 10-2002-7014147 (2002-10-22)
공개번호 10-2003-0037223 (2003-05-12)
국제출원번호 PCT/GB2002/002946 (2002-06-20)
국제공개번호 WO2003006701 (2003-01-23)
번역문제출일자 2002-10-22
DOI http://doi.org/10.8080/1020027014147
발명자 / 주소
  • 리치,폴 / 영국지엘***엔알,글로우세스터셔,오톤언더엣지,***파크랜드스
  • 위긴스,클래르루이제 / 영국,비지***엘엘,린크스,그란탐,그레이트고너비,*폰드스트리트
출원인 / 주소
  • 트리콘 호울딩즈 리미티드 / 영국, 엔피* *티에이, 그웬트, 뉴포트, 링랭드 웨이, 코이드 리딘
대리인 / 주소
  • 강명구 (KANG, Myung Koo)
  • 서울특별시 종로구 당주동 *번지 로얄빌딩 ****호 (강명구 특허법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

타겟으로부터 음으로 바이어스 될 수 있는 연마판 상에 유지된 작업편 상에 질화알루미늄을 스퍼터 침착하는 단계를 포함한 결정학적으로 배향된 질화알루미늄 침착 방법이 발표된다. 스퍼터링 가스는 크립톤이나 크세논을 포함하고 웨이퍼를 가로질러 평탄한 XRD FWHM 프로파일과 cm2당 ≤ +/- 5E10-8 다인의 범위 내에서 공칭 제로 응력을 제공하도록 연마판으로의 바이어스가 선택된다.

대표청구항 ▼

타겟으로부터 음으로 바이어스 될 수 있는 연마판 상에 유지된 작업편 상에 질화알루미늄을 스퍼터 침착하는 단계를 포함한 결정학적으로 배향된 질화알루미늄 침착 방법에 있어서, 스퍼터링 가스는 크립톤이나 크세논을 포함하고 웨이퍼를 가로질러 평탄한 XRD FWHM 프로파일과 cm2당 ≤ +/- 5E10-8 다인의 범위 내에서 공칭 제로 응력을 제공하도록 연마판으로의 바이어스가 선택됨을특징으로 하는 침착 방법제 1항에 있어서, 스퍼터링 가스가 크립톤이나 크세논과 질소의 혼합물이고 타겟이 알루미늄임을 특징으로 하는 방법제 2항에 있어서, 크립

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